| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-9页 |
| 符号说明 | 第9-10页 |
| 图表目录 | 第10-12页 |
| 第一部分 含轻稀土磁致伸缩材料的制备与性能 | 第12-48页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| §1-1 磁致伸缩材料的研究进展 | 第12-14页 |
| §1-2 磁致伸缩理论简介 | 第14-17页 |
| 1-2-1 磁致伸缩的唯象理论 | 第14-16页 |
| 1-2-2 RFe_2中磁致伸缩的原子模型 | 第16-17页 |
| §1-3 磁致伸缩材料的应用 | 第17-18页 |
| §1-4 选题的依据 | 第18-20页 |
| 第二章 磁致伸缩材料的制备工艺与测试技术 | 第20-24页 |
| §2-1 磁致伸缩材料的制备工艺 | 第20-21页 |
| 2-1-1 含轻稀土多晶样品的制备 | 第20页 |
| 2-1-2 取向样品的制备 | 第20-21页 |
| 2-1-3 其他制备方法 | 第21页 |
| §2-2 磁致伸缩材料的测试技术 | 第21-24页 |
| 2-2-1 X射线方法测量材料的结构 | 第21-22页 |
| 2-2-2 振动样品磁强计 | 第22页 |
| 2-2-3 磁致伸缩的测量 | 第22-24页 |
| 第三章 轻稀土磁致伸缩材料制备与性能 | 第24-37页 |
| §3-1 引言 | 第24页 |
| §3-2 材料的制备 | 第24-26页 |
| 3-2-1 多晶样品的制备 | 第24-25页 |
| 3-2-2 取向样品的制备 | 第25-26页 |
| §3-3 结果与讨论 | 第26-36页 |
| 3-3-1 Ce_x（Tb_（0．27）Dy_（0．73））_（1-x）Fe_2体系 | 第26-30页 |
| 3-3-2 Pr_（0．15）Tb_xDy_（0．85-x）Fe_2体系 | 第30-36页 |
| §3-4 小结 | 第36-37页 |
| 第四章 粘结磁致伸缩材料的性能 | 第37-48页 |
| §4-1 引言 | 第37页 |
| §4-2 实验 | 第37-38页 |
| 4-2-1 制备粘结磁体的工艺流程 | 第37-38页 |
| 4-2-2 粘结磁体的制备 | 第38页 |
| 4-2-3 物性测量 | 第38页 |
| §4-3 结果与讨论 | 第38-46页 |
| 4-3-1 结构分析 | 第38-39页 |
| 4-3-2 成形压力对性能的影响 | 第39-40页 |
| 4-3-3 胶量对材料性能的影响 | 第40-43页 |
| 4-3-4 预应力对磁致伸缩性能的影响 | 第43-45页 |
| 4-3-5 粘结轻稀土磁致伸缩材料的性能 | 第45页 |
| 4-3-6 Al作为粘结剂粘结磁致伸缩材料的性能 | 第45-46页 |
| §4-4 小结 | 第46-48页 |
| 第二部分 MnBiAl磁光薄膜的制备与性能研究 | 第48-61页 |
| 第一章 引言 | 第48-53页 |
| §1-1 磁光存储材料的研究现状 | 第48-49页 |
| §1-2 MnBi薄膜的研究概述 | 第49-51页 |
| 1-2-1 合金的结构和相变 | 第49-50页 |
| 1-2-2 MnBi合金的磁性 | 第50页 |
| 1-2-3 MnBi薄膜的改进 | 第50页 |
| 1-2-4 MnBiAl磁光薄膜 | 第50-51页 |
| §1-3 薄膜的制备 | 第51页 |
| 1-3-1 蒸发法 | 第51页 |
| 1-3-2 溅射法 | 第51页 |
| §1-4 选题 | 第51-53页 |
| 第二章 薄膜的制备与性能分析 | 第53-60页 |
| §2-1 实验方法 | 第53-54页 |
| 2-1-1 基片的清洗 | 第53页 |
| 2-1-2 溅射制膜 | 第53页 |
| 2-1-3 退火处理 | 第53页 |
| 2-1-4 薄膜样品的分析测试方法 | 第53-54页 |
| §2-2 不同衬底材料对溅射Bi膜结构的影响 | 第54-56页 |
| §2-3 溅射MnBiAl薄膜的结构 | 第56-58页 |
| 2-3-1 Mn:Bi对薄膜结构的影响 | 第56-57页 |
| 2-3-2 多层膜的周期数对MnBiAl膜结晶取向的影响 | 第57-58页 |
| §2-4 溅射MnBiAl薄膜磁晶各向异性的研究 | 第58-60页 |
| 第三章 结论 | 第60-61页 |
| 总结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第66页 |
