| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-39页 |
| ·高温超导体简介 | 第13-15页 |
| ·高温超导薄膜的研究及应用 | 第15-17页 |
| ·Bi系氧化物超导薄膜的研究 | 第17-26页 |
| ·Bi系氧化物超导体的特点和结构特征 | 第17-19页 |
| ·Bi系氧化物超导体的组分和相关系 | 第19-20页 |
| ·Bi系氧化物超导薄膜的研究现状 | 第20-23页 |
| ·Bi系氧化物超导薄膜的制备 | 第23-25页 |
| ·Bi系氧化物超导薄膜目前存在的问题 | 第25-26页 |
| ·本论文的研究意义和内容 | 第26-27页 |
| ·研究目的、意义 | 第26页 |
| ·研究内容 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-39页 |
| 第2章 实验方法和表征手段 | 第39-63页 |
| ·样品制备方法 | 第39-49页 |
| ·分子束外延法制备薄膜 | 第39-42页 |
| ·分子束外延法生长的特点 | 第39页 |
| ·分子束外延装置 | 第39-42页 |
| ·臭氧浓缩装置 | 第42-46页 |
| ·臭氧浓缩装置的结构 | 第42-44页 |
| ·硅胶温度和浓缩时间对臭氧浓度的影响 | 第44-45页 |
| ·臭氧浓度随时间和硅胶温度的变化 | 第45-46页 |
| ·X射线反射法和探针法研究Bi,Sr,Ca和Cu的蒸发速率 | 第46-49页 |
| ·Bi和Cu蒸发速率的测量 | 第47-48页 |
| ·Sr和Ca蒸发速率的测量 | 第48-49页 |
| ·样品表征手段 | 第49-59页 |
| ·X射线衍射谱 | 第50-51页 |
| ·X射线反射 | 第51-52页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第52-53页 |
| ·透射电镜技术 | 第53-55页 |
| ·电镜样品制备 | 第53-54页 |
| ·电子衍射和衍衬分析 | 第54页 |
| ·高分辨透射电子显微术 | 第54-55页 |
| ·X射线能量色散谱 | 第55-56页 |
| ·扫描隧道电子显微镜 | 第56-57页 |
| ·原子力显微镜 | 第57-58页 |
| ·表面轮廓仪 | 第58页 |
| ·四引线法测量电学性能 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 第3章 Bi_2Sr_2CaCu_2O_(8+δ)薄膜的分子束外延法制备及结晶性 | 第63-87页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·实验内容 | 第63-65页 |
| ·薄膜制备方法 | 第63-64页 |
| ·分析方法 | 第64-65页 |
| ·实验结果与讨论 | 第65-83页 |
| ·影响Bi-2212薄膜成相的主要参数研究 | 第65-78页 |
| ·成分对成相和表面形貌的影响 | 第65-71页 |
| ·衬底温度的选择 | 第71-73页 |
| ·臭氧分压的选择 | 第73-74页 |
| ·衬底温度和臭氧分压对Bi-2212薄膜成相的影响 | 第74-78页 |
| ·改善Bi-2212薄膜结晶完整性研究 | 第78-83页 |
| ·生长速率对薄膜结晶性的控制 | 第78-79页 |
| ·错配度对薄膜外延特性的控制 | 第79-83页 |
| ·本章结论 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-87页 |
| 第4章 Bi_(2.1)Ca_ySr_(1.9-y)CuO_(6+δ)薄膜的制备、性能及微结构研究 | 第87-107页 |
| ·引言 | 第87页 |
| ·Bi_2Sr_2CuO_(6+δ)薄膜的制备及结构分析 | 第87-91页 |
| ·实验内容 | 第88页 |
| ·Bi_2Sr_2CuO_(6+δ)薄膜的结构、厚度和表面形貌分析 | 第88-91页 |
| ·Bi_(2.1)Ca_ySr_(1.9-y)CuO_(6+δ)薄膜的结构、性能及微结构分析 | 第91-103页 |
| ·实验内容 | 第91页 |
| ·实验结果与讨论 | 第91-103页 |
| ·衬底温度对Bi_(2.1)Ca_ySr_(1.9-y)CuO_(6+δ)薄膜成相的影响 | 第91-93页 |
| ·Bi_(2.1)Ca_ySr_(1.9-y)CuO_(6+δ)薄膜的结构、表面形貌分析 | 第93-95页 |
| ·Bi_(2.1)Ca_ySr_(1.9-y)CuO_(6+δ)薄膜的导电性能分析 | 第95-97页 |
| ·Bi_(2.1)Ca_ySr_(1.9-y)CuO_(6+δ)薄膜微结构研究 | 第97-103页 |
| ·本章结论 | 第103页 |
| 参考文献 | 第103-107页 |
| 第5章 具有沟槽表面MgO(100)衬底上Bi_(2.1)Ca_(0.8)Sr_(1.1)CuO_(6+δ)薄膜的制备及微结构研究 | 第107-119页 |
| ·引言 | 第107-108页 |
| ·实验内容 | 第108-110页 |
| ·MgO(100)衬底的表面处理 | 第108-109页 |
| ·Bi_(2.1)Ca_(0.8)Sr_(1.1)CuO_(6+δ)薄膜制备 | 第109页 |
| ·分析方法 | 第109-110页 |
| ·实验结果与分析 | 第110-115页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第110-111页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第111-112页 |
| ·薄膜的微结构研究 | 第112-115页 |
| ·讨论 | 第115-116页 |
| ·本章结论 | 第116-117页 |
| 参考文献 | 第117-119页 |
| 第6章 结论 | 第119-121页 |
| 致谢 | 第121-123页 |
| 攻读博士学位期间已发表和在投的论文 | 第123-125页 |
| 作者简介 | 第125页 |
