| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-32页 |
| ·前言 | 第12-13页 |
| ·石墨层间化合物（GICs）概述 | 第13-27页 |
| ·研究历史与现状 | 第13-14页 |
| ·石墨层间化合物的分类 | 第14-16页 |
| ·石墨层间化合物的阶结构 | 第16-19页 |
| ·宿主石墨的种类和结构 | 第19-20页 |
| ·石墨层间化合物的合成方法 | 第20-22页 |
| ·石墨层间化合物的性质与用途 | 第22-26页 |
| ·石墨层间化合物研究的新方向 | 第26-27页 |
| ·纳米微波吸收材料研究概述 | 第27-30页 |
| ·微波吸收材料的特性与分类 | 第27页 |
| ·微波段电磁波的分类 | 第27-28页 |
| ·电磁波的吸收 | 第28页 |
| ·吸波材料对电磁波的损耗机理 | 第28-29页 |
| ·吸波材料的发展 | 第29-30页 |
| ·选题依据及主要研究内容 | 第30-32页 |
| ·选题依据 | 第30页 |
| ·主要研究内容 | 第30-32页 |
| 第2章 实验方法 | 第32-38页 |
| ·原料与化学试剂 | 第32页 |
| ·实验仪器与设备 | 第32-34页 |
| ·FeCl_3-NiCl_2-GICs 的制备 | 第34-35页 |
| ·FeCl_3-NiCl_2-GICs 的H2 还原工艺 | 第35页 |
| ·正交试验设计 | 第35-36页 |
| ·FeCl_3-NiCl_2-GICs 阶结构的确定 | 第36页 |
| ·表面形貌观察 | 第36页 |
| ·Ni、Fe 和Cl 元素组成分析 | 第36-37页 |
| ·激光共振拉曼光谱仪 | 第37页 |
| ·电磁参数的测定 | 第37页 |
| ·理论频率衰减曲线的计算 | 第37-38页 |
| 第3章 三元FeCl_3-NiCl_2-GICs 的插层过程 | 第38-50页 |
| ·一步法合成二阶FeCl_3-NiCl_2-GICs | 第38-44页 |
| ·FeCl_3-NiCl_2-GICs 阶结构的形成 | 第38-40页 |
| ·FeCl_3-NiCl_2-GICs 中第三元插入物的插入及扩散 | 第40-42页 |
| ·FeCl_3-NiCl_2-GICs 形成过程中的表面形貌分析 | 第42-43页 |
| ·FeCl_3-NiCl_2-GICs 形成过程中石墨与插入物间的相互作用 | 第43-44页 |
| ·两步法制备一阶FeCl_3-NiCl_2-GICs 的三元化过程 | 第44-46页 |
| ·三元FeCl_3-NiCl_2-GICs 的插层过程分析 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 FeCl_3-NiCl_2-GICs 合成工艺优化及其三元化评价 | 第50-59页 |
| ·一阶FeCl_3-NiCl_2-GICs 的制备及三元化评价 | 第50-56页 |
| ·正交试验设计 | 第50-51页 |
| ·正交试验结果及评价标准的制定 | 第51-54页 |
| ·FeCl_3-NiCl_2-GICs 合成工艺优化及各因素影响分析 | 第54-56页 |
| ·二阶FeCl_3-NiCl_2-GICs 合成工艺的优化 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 FeCl_3-NiCl_2-GICs 的还原及其产物的性能 | 第59-75页 |
| ·不同还原剂还原FeCl_3-NiCl_2-GICs 的还原效果研究 | 第59-63页 |
| ·还原剂对FeCl_3-NiCl_2-GICs 还原后产物结构的影响 | 第59-60页 |
| ·还原剂还原FeCl_3-NiCl_2-GICs 后产物的形貌及还原效果分析 | 第60-63页 |
| ·氢气再还原FeCl_3-NiCl_2-GICs 还原后试样的还原效果分析 | 第63页 |
| ·氢气还原FeCl_3-NiCl_2-GICs 工艺的研究 | 第63-70页 |
| ·还原温度对氢气还原效果的影响 | 第63-66页 |
| ·还原时间对氢气还原效果的影响 | 第66-67页 |
| ·氧对氢气还原FeCl_3-NiCl_2-GICs 效果的影响 | 第67-70页 |
| ·FeCl_3-NiCl_2-GICs 及其后处理产物的微波吸收性能 | 第70-74页 |
| ·石墨、FeCl_3-NiCl_2-GICs 及其后处理产物的电磁参数 | 第70-71页 |
| ·石墨、FeCl_3-NiCl_2-GICs 及其后处理产物的介电损耗与磁损耗 | 第71-72页 |
| ·石墨、FeCl_3-NiCl_2-GICs 及其后处理产物的理论频率-反射损耗 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 附录A 攻读硕士期间所发表的论文 | 第82页 |
