基于悬浮区熔技术的难熔金属生长控制系统研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-13页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·难熔金属的广泛应用及发展特点 | 第9-10页 |
| ·难熔金属单晶生长技术的发展历史和现状 | 第10-11页 |
| ·选题背景及研究意义 | 第11-12页 |
| ·本章小结 | 第12-13页 |
| 2 难熔金属单晶生长技术 | 第13-21页 |
| ·单晶生长技术概论 | 第13-14页 |
| ·区熔法原理 | 第14-17页 |
| ·电子束原理 | 第17-18页 |
| ·电子束悬浮区熔原理 | 第18-20页 |
| ·电子束悬浮区熔技术的优点 | 第19页 |
| ·电子束悬浮区熔技术的影响因素 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 3 机械系统与控制系统总体设计 | 第21-33页 |
| ·机械系统简介 | 第21-24页 |
| ·机械系统组成 | 第21-23页 |
| ·相关外围设备 | 第23-24页 |
| ·控制系统总体设计 | 第24-32页 |
| ·控制系统设计方法 | 第24-28页 |
| ·运动控制系统分类 | 第28-30页 |
| ·难熔金属单晶生长控制系统设计 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 4 控制系统硬件实现 | 第33-55页 |
| ·伺服控制结构 | 第33-34页 |
| ·控制系统硬件组成 | 第34-40页 |
| ·运动控制器 | 第34-36页 |
| ·转接卡 | 第36页 |
| ·直流伺服放大器 | 第36-40页 |
| ·速度控制系统 | 第40-49页 |
| ·上下两轴的同步控制 | 第41-42页 |
| ·慢速电机与运动控制器的接口设计 | 第42-46页 |
| ·慢速电机控制原理 | 第46-47页 |
| ·快速电机控制原理 | 第47-49页 |
| ·位置测量系统 | 第49-53页 |
| ·光栅 | 第49-51页 |
| ·编码器 | 第51-53页 |
| ·硬件抗干扰 | 第53-54页 |
| ·供电部分的抗干扰措施 | 第53页 |
| ·信号传输通道的抗干扰设计 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 5 控制系统软件开发 | 第55-63页 |
| ·控制系统软件总体设计 | 第55-57页 |
| ·控制系统软件功能设计 | 第57-58页 |
| ·难熔金属单晶生长控制系统软件开发 | 第58-62页 |
| ·运动控制器软件介绍 | 第58页 |
| ·控制系统软件的实现 | 第58-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 6 总结与展望 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 附录A 硬件电路图 | 第71-75页 |
| 附录B 难熔金属单晶生长设备及控制柜 | 第75-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文与参与项目 | 第77页 |
