| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 致谢 | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| ·概述 | 第12页 |
| ·含铜纳米材料的研究现状 | 第12-16页 |
| ·纳米科学技术发展概况 | 第12-14页 |
| ·含铜纳米材料的应用 | 第14-16页 |
| ·氧化亚铜应用简介 | 第14-15页 |
| ·氧化铜应用简介 | 第15页 |
| ·纳米铜粉的应用 | 第15-16页 |
| ·无机空心球微纳米材料的研究进展 | 第16-22页 |
| ·无机空心球微纳米材料简介 | 第16-17页 |
| ·无机空心球微纳米材料的制备方法 | 第17-22页 |
| ·模板法 | 第17-20页 |
| ·溶剂热法 | 第20-21页 |
| ·自催化还原法 | 第21-22页 |
| ·本论文的选题目的和意义 | 第22-23页 |
| 第二章 前驱体-氢气还原法制备空心结构纳米铜球及其结构表征 | 第23-43页 |
| ·实验原理 | 第23-25页 |
| ·氢气还原氧化铜原理 | 第23-24页 |
| ·回流法制备 Cu_2O 纳米空心球原理 | 第24-25页 |
| ·试验部分 | 第25-27页 |
| ·药品 | 第25页 |
| ·仪器 | 第25-26页 |
| ·前驱体 Cu_2O 纳米空心球的制备 | 第26页 |
| ·不同有机溶剂体系中氧化亚铜球体的制备 | 第26页 |
| ·改变铜源和溶剂制备铜材料 | 第26页 |
| ·氢气还原制备 Cu 纳米空心球 | 第26页 |
| ·空心多孔材料的表征 | 第26-27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-37页 |
| ·前驱体 Cu_2O 纳米空心球表征结果分析 | 第27-32页 |
| ·XRD 结果分析 | 第27-28页 |
| ·透射电镜结果分析 | 第28-30页 |
| ·以 Cu504 为铜源制得的样品的透射电镜分析结果 | 第30-31页 |
| ·以 H_2O 为溶剂制得的样品的透射电镜分析结果 | 第31页 |
| ·Cu_2O 前驱物的表面结构分析 | 第31-32页 |
| ·氢气还原产物表征结果分析 | 第32-37页 |
| ·氢气还原氧化亚铜反应时间的确定 | 第32-33页 |
| ·不同温度下氢气还原氧化亚铜产物的XRD 结果分析 | 第33-34页 |
| ·不同温度下氢气还原氧化亚铜产物的 TEM 和 FSEM 结果分析 | 第34-36页 |
| ·产物的抗氧化性能 | 第36-37页 |
| ·氧化亚铜前驱物与铜纳米空心球的光学性质 | 第37-38页 |
| ·Cu_2O 十四面体纳米结构的形成及表征 | 第38-41页 |
| ·Cu_2O 纳米十四面体的制备 | 第38页 |
| ·Cu_2O 纳米十四面体的表征 | 第38-41页 |
| ·Cu_2O 纳米十四面体形成机理的推测 | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第三章 水合肼直接还原法制备空心结构纳米铜球及其结构表征 | 第43-51页 |
| ·实验原理 | 第43-44页 |
| ·实验部分 | 第44-45页 |
| ·试验药品 | 第44-45页 |
| ·试验器材 | 第45页 |
| ·试验步骤 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-50页 |
| ·还原剂用量对产物成分的影响 | 第45-46页 |
| ·保护气体的选择 | 第46-48页 |
| ·温度的影响 | 第48-49页 |
| ·还原剂加入速度对产物形貌的影响 | 第49页 |
| ·产物的抗氧化性能测试 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 结论与展望 | 第51-52页 |
| ·结论 | 第51页 |
| ·展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 硕士学位期间发表的论文 | 第57-58页 |
