摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-30页 |
·引言 | 第11-12页 |
·分子印迹技术的基本原理及应用研究 | 第12-21页 |
·分子印迹技术的基本原理 | 第12页 |
·分子印迹技术的分类 | 第12-13页 |
·分子印迹聚合物的构成 | 第13-18页 |
·分子印迹聚合物的制备方法 | 第18-19页 |
·分子印迹技术的应用研究 | 第19-20页 |
·分子印迹技术的挑战 | 第20-21页 |
·表面等离子体共振技术基本原理及研究 | 第21-28页 |
·表面等离子体共振技术的发展历程 | 第21-22页 |
·表面等离子体共振技术基本的原理 | 第22-24页 |
·SPR 传感系统的组成 | 第24-25页 |
·SPR 传感器的应用 | 第25-27页 |
·表面等离子体共振技术的研究进展 | 第27页 |
·分子印迹技术与表面等离子体共振技术联用的研究进展 | 第27-28页 |
·本课题的目的及意义 | 第28-29页 |
·课题主要研究内容 | 第29-30页 |
第2章 常规热聚合制备S_3分子印迹膜及SPR 检测 | 第30-51页 |
·实验材料 | 第30-32页 |
·实验试剂 | 第30页 |
·实验仪器及设备 | 第30-32页 |
·实验前准备工作 | 第32-37页 |
·金膜的设备 | 第36页 |
·载玻片的前期处理 | 第36-37页 |
·引发剂AIBN 的提纯 | 第37页 |
·实验条件的选择 | 第37-40页 |
·制备方法的选择 | 第37-38页 |
·反应温度,时间与引发剂的选择 | 第38-39页 |
·功能单体与交联剂的选择 | 第39页 |
·反应溶剂的选择 | 第39-40页 |
·热聚合制备S_3 分子印迹膜 | 第40-44页 |
·UV 光谱确定模板与单体比例 | 第40-43页 |
·S_3 分子印迹膜的制备 | 第43-44页 |
·SPR 测试结果与讨论 | 第44-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
第3章 “现场”热聚合及UV 光引发制备分子印迹膜及SPR 检测 | 第51-69页 |
·“现场”热聚合制备分子印迹膜及其SPR 检测 | 第51-62页 |
·实验试剂 | 第51页 |
·实验仪器 | 第51页 |
·实验前期制备与工作 | 第51-52页 |
·UV 光谱确定模板与单体比例分析 | 第52-58页 |
·“现场”热聚合成膜研究 | 第58-59页 |
·SPR 测试结果与讨论 | 第59-62页 |
·“现场”UV 光引发制备分子印迹膜及其SPR 检测 | 第62-68页 |
·研究内容 | 第62-63页 |
·实验试剂 | 第63页 |
·实验仪器 | 第63页 |
·实验条件选择 | 第63-65页 |
·“现场”UV 光引发成膜研究 | 第65页 |
·SPR 测试结果与讨论 | 第65-68页 |
·本章小结 | 第68-69页 |
结论 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-77页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第77-78页 |
致谢 | 第78页 |