纳米胶体射流抛光试验装置研制及工艺试验研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| ·课题的来源及意义 | 第8-9页 |
| ·课题的来源 | 第8页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第8-9页 |
| ·超光滑表面抛光技术研究现状 | 第9-15页 |
| ·直接接触抛光 | 第10-12页 |
| ·非接触抛光 | 第12-14页 |
| ·准接触抛光 | 第14-15页 |
| ·磨料射流抛光技术的研究现状 | 第15-16页 |
| ·磨料水射流抛光 | 第15-16页 |
| ·微磨料浆体射流抛光 | 第16页 |
| ·纳米胶体射流抛光的提出 | 第16-17页 |
| ·本文主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第2章 纳米胶体射流抛光流场分析及数值模拟 | 第18-29页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·射流流场分析 | 第18-23页 |
| ·射流流速及动压分布 | 第18-19页 |
| ·射流基本参数的计算 | 第19-23页 |
| ·射流流场数值模拟 | 第23-28页 |
| ·几何模型及网格划分 | 第23-24页 |
| ·控制方程及参数设置 | 第24-26页 |
| ·数值模拟结果及分析 | 第26-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 纳米胶体射流抛光系统的研制及性能验证 | 第29-38页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·纳米胶体射流抛光系统的研制 | 第29-34页 |
| ·纳米胶体射流抛光系统的设计方案 | 第29-30页 |
| ·纳米胶体射流抛光系统的研制 | 第30-33页 |
| ·纳米胶体射流抛光系统的集成 | 第33-34页 |
| ·纳米胶体射流抛光系统的性能验证 | 第34-37页 |
| ·去除率稳定性的试验验证 | 第34-35页 |
| ·超光滑表面抛光可行性的试验验证 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 纳米胶体射流抛光加工工艺试验研究 | 第38-50页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·纳米胶体射流抛光的主要工艺参数 | 第38页 |
| ·纳米胶体射流抛光去除效率试验研究 | 第38-45页 |
| ·抛光时间对去除深度的影响 | 第40-41页 |
| ·喷射压力对去除深度的影响 | 第41-42页 |
| ·喷射距离对去除深度的影响 | 第42-43页 |
| ·胶体浓度对去除深度的影响 | 第43页 |
| ·胶体酸碱度对去除深度的影响 | 第43-44页 |
| ·喷射角度与表面轮廓的关系 | 第44-45页 |
| ·纳米胶体射流抛光表面粗糙度试验研究 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
