| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-24页 |
| ·光伏产业概况 | 第10页 |
| ·太阳级硅制备新方法 | 第10-12页 |
| ·由冶金级硅提纯制备太阳级硅 | 第11页 |
| ·由高纯原料制备太阳级硅 | 第11页 |
| ·熔盐电解法制备太阳级硅 | 第11-12页 |
| ·熔盐电解制备太阳级硅研究进展 | 第12-18页 |
| ·SiO_2直接熔盐电解制备太阳级硅 | 第12-14页 |
| ·氟硅酸盐直接熔盐电解制备太阳级硅 | 第14-15页 |
| ·SiO_2阴极脱氧还原制备太阳级硅 | 第15页 |
| ·冶金硅熔盐电解精炼 | 第15-18页 |
| ·三层液熔盐电解制备太阳级硅对电解质的要求及其净化 | 第18-22页 |
| ·三层液熔盐电解制备太阳级硅对电解质的要求 | 第18-19页 |
| ·熔盐净化 | 第19-22页 |
| ·论文选题目的、意义及研究内容与方案 | 第22-24页 |
| ·论文选题目的和意义 | 第22-23页 |
| ·论文研究内容与方案 | 第23-24页 |
| 第二章 氟化物电解质熔体中电极电位计算 | 第24-32页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·氟化物电解质熔体中电极电位的计算 | 第24-31页 |
| ·氟化物熔盐电解质分解电压的计算 | 第24-28页 |
| ·氟化物熔盐电解质中不同浓度元素电极电位计算 | 第28-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 含硅氟化物电解质熔体直接预电解 | 第32-39页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验 | 第32-33页 |
| ·实验原料 | 第32页 |
| ·实验过程 | 第32-33页 |
| ·分析与检测 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-38页 |
| ·预电解过程槽电压变化及电解产物分析 | 第33-34页 |
| ·电解温度对电解质中杂质浓度变化的影响 | 第34-36页 |
| ·电流密度对电解质中杂质浓度变化的影响 | 第36-37页 |
| ·电解质中杂质浓度随预电解时间的变化 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 含硅氟化物电解质熔体反向和正向预电解 | 第39-50页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验 | 第39-40页 |
| ·实验原料 | 第39页 |
| ·实验过程 | 第39-40页 |
| ·分析与检测 | 第40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-49页 |
| ·预电解过程槽电压变化及电解产物形貌 | 第40-43页 |
| ·电解温度对电解质中杂质浓度变化的影响 | 第43-45页 |
| ·电流密度对电解质中杂质浓度变化的影响 | 第45-48页 |
| ·电解质中杂质浓度随预电解时间的变化 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 预电解对冶金硅三层液电解精炼效果的影响 | 第50-56页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·实验 | 第50-51页 |
| ·实验原料 | 第50页 |
| ·实验过程 | 第50-51页 |
| ·分析与检测 | 第51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-55页 |
| ·电解精炼过程槽电压的变化 | 第51-52页 |
| ·电解精炼产物的形貌 | 第52-53页 |
| ·高纯硅纯度分析 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第65页 |