| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·超导材料概述及发展历程 | 第10-12页 |
| ·超导材料分类 | 第12-13页 |
| ·高温超导材料 | 第13-17页 |
| ·超导薄膜 | 第17-21页 |
| ·超导薄膜的结构 | 第18页 |
| ·超导薄膜的性能参数 | 第18-20页 |
| ·超导转变温度T_c | 第18-19页 |
| ·临界电流密度J_c | 第19页 |
| ·临界磁场H_c | 第19-20页 |
| ·超导薄膜制备方法 | 第20-21页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第20-21页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第21页 |
| ·化学溶液沉积法 | 第21页 |
| ·本论文的研究内容与思路 | 第21-23页 |
| 第二章 实验方案和测试仪器 | 第23-29页 |
| ·实验方案设计 | 第23页 |
| ·实验测试仪器和测试原理 | 第23-29页 |
| ·差热分析(DTA)介绍 | 第23-24页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第25-27页 |
| ·综合物性测量系统(PPMS) | 第27-29页 |
| 第三章 SmBCO薄膜制备及工艺优化 | 第29-44页 |
| ·SmBCO薄膜制备工艺 | 第29-36页 |
| ·单晶片选择与清洗 | 第29-30页 |
| ·制备前驱体溶液 | 第30-31页 |
| ·SmBCO薄膜的旋涂 | 第31-32页 |
| ·SmBCO薄膜热处理工艺 | 第32-36页 |
| ·SmBCO薄膜最佳外延生长温度 | 第36-40页 |
| ·实验过程 | 第36页 |
| ·结果讨论 | 第36-40页 |
| ·SmBCO薄膜最佳熔融温度 | 第40-43页 |
| ·实验过程 | 第40页 |
| ·结果分析 | 第40-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第四章 微量Co元素Cu位掺杂SmBCO薄膜 | 第44-51页 |
| ·实验 | 第44-46页 |
| ·Co掺杂SmBCO薄膜热处理工艺 | 第46-47页 |
| ·Co掺杂SmBCO超导薄膜分析 | 第47-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第五章 无氟高分子辅助金属有机物沉积法制备SmBCO双层膜 | 第51-56页 |
| ·实验 | 第51页 |
| ·SmBCO双层厚膜热处理工艺 | 第51-52页 |
| ·SmBCO双层膜结果分析与总结 | 第52-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第63页 |