| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-32页 |
| ·前言 | 第8-9页 |
| ·AAO 的研究历史及最新进展 | 第9-22页 |
| ·多孔型AAO 的结构模型及成膜机理概述 | 第9-14页 |
| ·AAO 模板制备工艺的研究进展 | 第14-22页 |
| ·AAO 模板在准一维纳米材料制备方面的应用研究进展 | 第22-31页 |
| ·碳纳米管的制备 | 第22-28页 |
| ·金属纳米线阵列的制备 | 第28-31页 |
| ·选题意义和主要工作 | 第31-32页 |
| 第二章 实验材料和表征技术 | 第32-35页 |
| ·实验材料 | 第32-33页 |
| ·实验药品 | 第32页 |
| ·实验设备 | 第32-33页 |
| ·表征技术与手段 | 第33-35页 |
| ·光学显微镜 | 第33页 |
| ·扫描电子显微镜SEM（Scanning Electron Microscope） | 第33页 |
| ·EDS 能谱仪（Energy Dispersive Spectroscope） | 第33页 |
| ·X 射线光电子能谱XPS（X-ray Photoelectron Spectroscope） | 第33-34页 |
| ·激光拉曼光谱（Raman Spectrum） | 第34页 |
| ·低温液氮等温吸附仪 | 第34页 |
| ·接触角测试仪 | 第34-35页 |
| 第三章 规整有序AAO 模板的制备 | 第35-52页 |
| ·AAO 膜的制备实验 | 第35-37页 |
| ·铝箔的预处理 | 第35页 |
| ·二次阳极氧化法 | 第35-37页 |
| ·AAO 模板内Fe 纳米线的电化学沉积实验 | 第37页 |
| ·AAO 膜的通孔剥离实验 | 第37-38页 |
| ·硫酸溶液中的原位逆电剥离 | 第37-38页 |
| ·高氯酸与乙醇混合液中的阳极氧化剥离 | 第38页 |
| ·高氯酸与丙酮混合液中的阳极氧化剥离 | 第38页 |
| ·AAO 形貌的表征与影响因素的分析 | 第38-43页 |
| ·退火、电化学抛光等预处理的影响 | 第38-40页 |
| ·电解液浓度的影响 | 第40-41页 |
| ·阳极氧化电压的影响 | 第41页 |
| ·制备温度的影响 | 第41-43页 |
| ·小结 | 第43页 |
| ·AAO 模板内Fe 纳米线的电化学沉积实验的表征结果与分析 | 第43-47页 |
| ·AAO 膜通孔剥离实验的表征结果与分析 | 第47-51页 |
| ·在硫酸溶液中的原位逆电剥离 | 第47-48页 |
| ·在高氯酸和乙醇混合溶液中的阳极氧化剥离 | 第48页 |
| ·在高氯酸和丙酮混合溶液中的阳极氧化剥离 | 第48-49页 |
| ·通孔剥离的可能机理 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 碳纳米管的AAO 模板法制备 | 第52-62页 |
| ·碳纳米管的制备 | 第52-53页 |
| ·AAO 模板的预处理 | 第52-53页 |
| ·AAO 模板内CVD 法制备碳纳米管 | 第53页 |
| ·碳纳米管的表征 | 第53-58页 |
| ·碳纳米管的SEM 表征 | 第53-56页 |
| ·碳纳米管的拉曼光谱 | 第56-58页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第58-60页 |
| ·AAO 模板在碳纳米管生长过程中的作用 | 第59-60页 |
| ·金属催化剂对所制备的碳纳米管的影响 | 第60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 AAO 与氧化石墨烯溶液的固-液界面成膜 | 第62-71页 |
| ·基于AAO 的氧化石墨烯膜的制备 | 第62-63页 |
| ·氧化石墨的制备 | 第62页 |
| ·氧化石墨烯溶液的配制 | 第62-63页 |
| ·浸渍-吸附法在AAO 表面制备氧化石墨烯薄膜 | 第63页 |
| ·材料及产物的表征与实验结果讨论 | 第63-70页 |
| ·氧化石墨的XPS 表征 | 第63-64页 |
| ·AAO 膜的接触角测试 | 第64-65页 |
| ·AAO 膜的比表面测定 | 第65页 |
| ·氧化石墨烯薄膜的SEM 表征 | 第65-68页 |
| ·氧化石墨烯薄膜的拉曼光谱 | 第68-69页 |
| ·成膜的可能原因分析 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 全文主要结论及工作展望 | 第71-73页 |
| ·主要结论 | 第71-72页 |
| ·工作展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
