氧化钛柱状纳米结构薄膜的制备和光催化性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-34页 |
| ·研究背景 | 第8-9页 |
| ·纳米材料的效应 | 第9-11页 |
| ·量子尺寸效应 | 第9页 |
| ·量子相干效应 | 第9-10页 |
| ·量子霍耳效应 | 第10页 |
| ·小尺寸效应 | 第10页 |
| ·表面与界面效应 | 第10-11页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第11页 |
| ·纳米技术的应用 | 第11-18页 |
| ·纳米技术在环保和能源领域中的应用 | 第12-14页 |
| ·纳米材料在化学催化领域中的应用 | 第14页 |
| ·纳米技术在生物医药领域中的应用 | 第14-15页 |
| ·纳米技术在光电领域的应用 | 第15-16页 |
| ·纳米技术在电子信息领域中的应用 | 第16-18页 |
| ·Ti0_2 系纳米材料概述及其光催化特性 | 第18-25页 |
| ·纳米Ti0_2 光催化降解有机物 | 第20-22页 |
| ·纳米Ti0_2 光催化分解水 | 第22-23页 |
| ·纳米Ti0_2 光催化灭菌 | 第23-24页 |
| ·纳米Ti0_2 在太阳能电池中的应用 | 第24页 |
| ·Ti0_2 系纳米材料的其他特性 | 第24-25页 |
| ·倾斜生长法（GLAD） | 第25-33页 |
| ·GLAD 原理 | 第25-27页 |
| ·GLAD 对薄膜的调控 | 第27-32页 |
| ·GLAD 的特点 | 第32-33页 |
| ·论文想法和内容 | 第33-34页 |
| 第2章 实验过程及分析仪器 | 第34-40页 |
| ·钛薄膜的制备方法及设备 | 第34-36页 |
| ·磁控溅射技术介绍 | 第34-35页 |
| ·三靶共溅射型高真空磁控溅射装置介绍 | 第35页 |
| ·直流磁控溅射沉积钛薄膜的一般步骤 | 第35-36页 |
| ·其他主要实验方法及过程 | 第36-40页 |
| ·基底的清洗 | 第36-37页 |
| ·退火处理 | 第37页 |
| ·所用主要分析表征方法及设备 | 第37-40页 |
| 第3章 柱状纳米结构钛薄膜的生长及其退火氧化规律 | 第40-56页 |
| ·钛柱状纳米结构薄膜的生长与表征 | 第40-42页 |
| ·实验过程 | 第40-41页 |
| ·钛薄膜的形貌 | 第41页 |
| ·钛薄膜的相结构分析 | 第41-42页 |
| ·钛柱状纳米结构薄膜的退火氧化与规律探讨 | 第42-53页 |
| ·实验过程 | 第42页 |
| ·退火对薄膜形貌的影响 | 第42-47页 |
| ·薄膜在退火中的氧化相变规律 | 第47-52页 |
| ·不同氧化程度薄膜的光致发光性能 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-56页 |
| 第4章 柱状结构二氧化钛薄膜的制备及其光催化性能 | 第56-68页 |
| ·二氧化钛柱状纳米结构的制备与表征 | 第57-60页 |
| ·实验过程 | 第57页 |
| ·二氧化钛薄膜的相结构分析 | 第57-59页 |
| ·二氧化钛薄膜的形貌分析 | 第59-60页 |
| ·柱状分立结构二氧化钛的光催化性能 | 第60-61页 |
| ·实验过程 | 第60页 |
| ·实验结果与讨论 | 第60-61页 |
| ·沉积角对分立结构二氧化钛薄膜的形貌和性能影响 | 第61-66页 |
| ·实验过程 | 第61-62页 |
| ·不同沉积角沉积薄膜的厚度 | 第62页 |
| ·退火氧化后的相结构 | 第62-63页 |
| ·退火氧化后的微观形貌 | 第63-65页 |
| ·不同沉积角度样品的光催化性能表征 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 致谢 | 第74-76页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第76页 |
