微弧氧化膜层形成及其表面粗糙度的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-28页 |
| ·微弧氧化技术简介 | 第14-16页 |
| ·微弧氧化技术发展 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术基本原理 | 第15页 |
| ·微弧氧化技术特点 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化技术发展现状及趋势 | 第16-25页 |
| ·国内外工艺研究现状 | 第16-18页 |
| ·膜层表面粗糙度工艺研究现状 | 第18-19页 |
| ·膜层形成过程研究现状 | 第19-23页 |
| ·微弧氧化技术应用进程 | 第23-25页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第25-26页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第2章 试验条件及研究方法 | 第28-35页 |
| ·微弧氧化试验设备 | 第28-32页 |
| ·微弧氧化电源 | 第28-31页 |
| ·温度控制系统 | 第31-32页 |
| ·试验材料 | 第32页 |
| ·工艺流程 | 第32页 |
| ·测试分析设备及方法 | 第32-34页 |
| ·表面粗糙度测试 | 第32-33页 |
| ·厚度检测 | 第33页 |
| ·硬度检测 | 第33页 |
| ·膜层微观形貌分析 | 第33-34页 |
| ·膜层表面耐磨性分析 | 第34页 |
| ·膜层表面耐腐蚀性分析 | 第34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 微弧氧化火花放电过程 | 第35-65页 |
| ·介质击穿理论 | 第35-39页 |
| ·气体介质击穿 | 第35-37页 |
| ·固体介质击穿 | 第37-39页 |
| ·微弧氧化火花放电特点 | 第39-47页 |
| ·微弧氧化处理过程中的现象分析 | 第39-45页 |
| ·处理方式对放电火花状态的影响 | 第45页 |
| ·火花放电特征 | 第45-46页 |
| ·火花形成条件 | 第46-47页 |
| ·单个火花放电机理探讨 | 第47-61页 |
| ·火花放电等离子源形成 | 第47-54页 |
| ·等离子体放电击穿膜层 | 第54-57页 |
| ·构成膜层的物质生成 | 第57-60页 |
| ·等离子体放电火花熄灭 | 第60-61页 |
| ·放电现象研究 | 第61-63页 |
| ·放电火花自动产生和消失的机制 | 第61-62页 |
| ·放电火花分布自动演化 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第4章 微弧氧化膜层形成机制 | 第65-85页 |
| ·膜层生长机制分析 | 第65-76页 |
| ·膜层形成过程中的反应 | 第65-68页 |
| ·火花放电过程中膜层的生长 | 第68-70页 |
| ·膜层晶相变化分析 | 第70-71页 |
| ·膜层表面形貌的形成 | 第71-72页 |
| ·工艺参数对膜层形成的影响 | 第72-76页 |
| ·微弧氧化膜层形成过程试验研究 | 第76-84页 |
| ·膜层形成演化过程 | 第76-82页 |
| ·工艺参数对膜层表面形貌的影响 | 第82-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 第5章 微弧氧化工艺参数优化 | 第85-96页 |
| ·试验方法 | 第85页 |
| ·数据分析方法 | 第85-87页 |
| ·支持向量机回归分析基本原理 | 第87-90页 |
| ·回归分析模型建立 | 第90-92页 |
| ·模型校验 | 第92-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 第6章 膜层表面粗糙度工艺试验 | 第96-108页 |
| ·工艺研究方案 | 第96-99页 |
| ·溶液的选择 | 第97-98页 |
| ·工艺研究路线 | 第98-99页 |
| ·工艺参数优化 | 第99页 |
| ·处理方式对膜层表面粗糙度的影响 | 第99-102页 |
| ·能量控制方式的影响 | 第99-101页 |
| ·脉冲输出形式的影响 | 第101-102页 |
| ·基体材料的影响 | 第102-104页 |
| ·最小表面粗糙度值的膜层性能 | 第104-106页 |
| ·本章小结 | 第106-108页 |
| 结论 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-120页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第120-122页 |
| 致谢 | 第122-123页 |
| 个人简历 | 第123页 |
