| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 引言 | 第12-32页 |
| 1.1 五氧化二钒的特性及应用 | 第12-20页 |
| 1.1.1 五氧化二钒的结构和性质 | 第12-15页 |
| 1.1.2 五氧化二钒的应用 | 第15-20页 |
| 1.2 五氧化二钒材料的合成及改性 | 第20-27页 |
| 1.2.1 纳米化 | 第20-23页 |
| 1.2.2 结构复合 | 第23-25页 |
| 1.2.3 离子掺杂 | 第25-27页 |
| 1.3 原子层沉积技术 | 第27-29页 |
| 1.3.1 原子层沉积技术的原理及特性。 | 第27-28页 |
| 1.3.2 原子层沉积技术的应用。 | 第28-29页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第29-32页 |
| 第2章 原子层沉积的五氧化二钒薄膜生长及其机理研究 | 第32-46页 |
| 2.1 前言 | 第32-33页 |
| 2.2 样品的制备和表征 | 第33-35页 |
| 2.2.1 实验原料 | 第33页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第33-34页 |
| 2.2.3 结果表征 | 第34-35页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第35-44页 |
| 2.3.1 五氧化二钒微晶薄膜的表面形貌和厚度分析 | 第35-39页 |
| 2.3.2 五氧化二钒薄膜的组分特性 | 第39-40页 |
| 2.3.3 五氧化二钒薄膜的结构特性 | 第40-44页 |
| 2.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第3章 原子层沉积的五氧化二钒薄膜光学特性研究 | 第46-64页 |
| 3.1 前言 | 第46-47页 |
| 3.2 样品制备 | 第47-48页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第47页 |
| 3.2.2 实验步骤 | 第47页 |
| 3.2.3 结果表征 | 第47-48页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第48-61页 |
| 3.3.1 五氧化二钒薄膜的光学常数 | 第48-56页 |
| 3.3.2 五氧化二钒薄膜的光吸收特性 | 第56-59页 |
| 3.3.3 五氧化二钒薄膜的光致发光特性 | 第59-61页 |
| 3.4 本章小结 | 第61-64页 |
| 第4章 五氧化二钒薄膜的掺杂及其特性研究 | 第64-80页 |
| 4.1 前言 | 第64-65页 |
| 4.2 样品制备 | 第65-67页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第65页 |
| 4.2.2 实验步骤 | 第65-67页 |
| 4.2.3 结果表征 | 第67页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第67-79页 |
| 4.3.1 自掺杂五氧化二钒薄膜 | 第67-70页 |
| 4.3.2 锌掺杂五氧化二钒薄膜 | 第70-73页 |
| 4.3.3 钛掺杂五氧化二钒薄膜 | 第73-76页 |
| 4.3.4 铝掺杂五氧化二钒薄膜 | 第76-79页 |
| 4.4 本章小结 | 第79-80页 |
| 第5章 原子层沉积的五氧化二钒薄膜电学特性研究 | 第80-88页 |
| 5.1 前言 | 第80页 |
| 5.2 样品制备 | 第80-81页 |
| 5.2.1 实验材料 | 第80-81页 |
| 5.2.2 实验步骤 | 第81页 |
| 5.2.3 结果表征 | 第81页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第81-87页 |
| 5.3.1 五氧化二钒薄膜的电学特性 | 第81-84页 |
| 5.3.2 五氧化二钒薄膜的电化学特性 | 第84-87页 |
| 5.4 本章小结 | 第87-88页 |
| 第6章 总结与展望 | 第88-92页 |
| 6.1 总结 | 第88-89页 |
| 6.2 展望 | 第89-92页 |
| 参考文献 | 第92-105页 |
| 作者简介及攻读学位期间主要成果 | 第105-107页 |