致谢 | 第6-7页 |
摘要 | 第7-9页 |
Abstract | 第9-10页 |
1 绪论 | 第18-21页 |
1.1 课题背景 | 第18-20页 |
1.2 研究目标与内容 | 第20-21页 |
2 文献综述 | 第21-34页 |
2.1 常见的半导体光催化剂 | 第21页 |
2.2 Bi_2WO_6光催化剂研究现状 | 第21-33页 |
2.2.1 Bi_2WO_6光催化剂简介 | 第21-22页 |
2.2.2 Bi_2WO_6光催化剂研究进展 | 第22-32页 |
2.2.3 VOCs和氮氧化物协同光催化氧化 | 第32-33页 |
2.3 本章小结 | 第33-34页 |
3 实验研究方法 | 第34-44页 |
3.1 试剂和仪器 | 第34-35页 |
3.1.1 主要材料与试剂 | 第34页 |
3.1.2 主要实验仪器 | 第34-35页 |
3.2 催化剂表征方法 | 第35-40页 |
3.2.1 物理性质表征 | 第35-37页 |
3.2.2 光学性能表征 | 第37-38页 |
3.2.3 光电性能表征 | 第38-39页 |
3.2.4 活性物种和催化剂表面碳沉积分析 | 第39-40页 |
3.2.5 原位漫反射傅里叶红外测试 | 第40页 |
3.3 催化剂活性测试方法 | 第40-44页 |
3.3.1 光催化活性测试装置 | 第40-41页 |
3.3.2 甲苯浓度测试方法及标准曲线绘制 | 第41-42页 |
3.3.3 CO_2浓度测试方法及标准曲线绘制 | 第42-44页 |
4 层状MoSe_2/Bi_2WO_6复合催化剂制备及其光催化性能研究 | 第44-58页 |
4.1 实验过程 | 第44-45页 |
4.1.1 催化剂制备 | 第44-45页 |
4.1.2 催化剂表征 | 第45页 |
4.2 结果与讨论 | 第45-56页 |
4.2.1 光催化活性分析 | 第45-46页 |
4.2.2 物理性质和形貌分析 | 第46-49页 |
4.2.3 XPS结果分析 | 第49-51页 |
4.2.4 样品光学特性及光生电荷复合情况分析 | 第51-53页 |
4.2.5 催化剂稳定性和光催化反应机理 | 第53-56页 |
4.3 本章小结 | 第56-58页 |
5 层状α-Fe_2O_3/Bi_2WO_6异质结制备及其光催化性能研究 | 第58-71页 |
5.1 实验过程 | 第58-59页 |
5.1.1 催化剂制备 | 第58页 |
5.1.2 催化剂表征 | 第58-59页 |
5.2 结果与讨论 | 第59-70页 |
5.2.1 晶相结构和微观形貌分析 | 第59-62页 |
5.2.2 表面元素分析 | 第62-63页 |
5.2.3 光学性能和催化剂能带位置分析 | 第63-65页 |
5.2.4 光生电荷复合情况分析 | 第65-66页 |
5.2.5 光催化活性和稳定性测试 | 第66-68页 |
5.2.6 光催化反应机理 | 第68-70页 |
5.3 本章小结 | 第70-71页 |
6 具有Bi缺陷的单层Bi_2WO_6制备及其光催化性能研究 | 第71-89页 |
6.1 实验过程 | 第71-72页 |
6.1.1 催化剂制备 | 第71页 |
6.1.2 催化剂表征 | 第71-72页 |
6.2 结果与讨论 | 第72-88页 |
6.2.1 物理性质分析 | 第72-78页 |
6.2.2 光学性能和催化剂能带位置分析 | 第78-80页 |
6.2.3 光生电荷复合情况分析 | 第80-82页 |
6.2.4 光催化活性和稳定性测试 | 第82-85页 |
6.2.5 光催化活性增强机理 | 第85-88页 |
6.3 本章小结 | 第88-89页 |
7 NO对光催化氧化甲苯过程影响机制研究 | 第89-95页 |
7.1 1.0M-mBWO催化剂氧化甲苯机理分析 | 第89-90页 |
7.2 1.OM-mBWO催化剂氧化NO机理分析 | 第90-91页 |
7.3 1.OM-mBWO催化剂协同氧化NO和甲苯机理分析 | 第91-93页 |
7.3.1 先光催化氧化甲苯再加入NO | 第91-92页 |
7.3.2 先光催化氧化NO再加入甲苯 | 第92-93页 |
7.4 NO存在条件下样品光降解甲苯活性 | 第93-94页 |
7.5 本章小结 | 第94-95页 |
8 结论与展望 | 第95-97页 |
8.1 主要结论 | 第95-96页 |
8.2 对未来工作的主要建议 | 第96-97页 |
参考文献 | 第97-116页 |
作者简介 | 第116页 |