| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 MgF_2薄膜结构与增透原理 | 第11-12页 |
| 1.2 MgF_2系薄膜的性能及应用 | 第12-14页 |
| 1.2.1 单层MgF_2薄膜的性能及应用 | 第12-13页 |
| 1.2.2 多层MgF_2薄膜的性能及应用 | 第13-14页 |
| 1.3 MgF_2增透膜制备工艺方法 | 第14-17页 |
| 1.3.1 蒸发法制备MgF_2薄膜 | 第14-15页 |
| 1.3.2 磁控溅射法制备MgF_2薄膜 | 第15页 |
| 1.3.3 提高MgF_2薄膜性能的工艺方法 | 第15-17页 |
| 1.4 氧元素对MgF_2薄膜的侵蚀及防护措施 | 第17-20页 |
| 1.4.1 空间材料环境分析 | 第17-18页 |
| 1.4.2 空间氧元素对MgF_2薄膜的影响 | 第18-19页 |
| 1.4.3 防护措施 | 第19-20页 |
| 1.5 研究背景及主要内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验方法 | 第21-26页 |
| 2.1 光学薄膜设计与模拟软件 | 第21页 |
| 2.2 薄膜衬底及其预处理 | 第21-22页 |
| 2.3 薄膜的制备装置 | 第22页 |
| 2.4 薄膜的制备及后处理工艺方法 | 第22-23页 |
| 2.4.1 电子束蒸发镀膜制备工艺 | 第22-23页 |
| 2.4.2 离子束辅助镀膜工艺 | 第23页 |
| 2.4.3 薄膜退火工艺 | 第23页 |
| 2.4.4 氧离子束后处理工艺 | 第23页 |
| 2.5 薄膜的组织结构表征方法 | 第23-25页 |
| 2.5.1 X射线衍射仪 | 第23-24页 |
| 2.5.2 金相显微镜 | 第24页 |
| 2.5.3 场发射电子显微镜及X射线能量色散谱仪 | 第24页 |
| 2.5.4 X射线光电子能谱仪 | 第24-25页 |
| 2.6 薄膜的性能测试方法 | 第25-26页 |
| 2.6.1 紫外-可见分光光度计 | 第25页 |
| 2.6.2 四探针测试仪 | 第25页 |
| 2.6.3 霍尔效应测试系统 | 第25-26页 |
| 第3章 氧离子轰击对MgF_2薄膜光学性能的影响 | 第26-45页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 氧离子轰击参数对MgF_2薄膜光学性能的影响规律 | 第26-30页 |
| 3.2.1 单层MgF_2薄膜的光学性能 | 第26-27页 |
| 3.2.2 氧离子能量对MgF_2薄膜光学性能的影响 | 第27-28页 |
| 3.2.3 氧离子束流对MgF_2薄膜光学性能的影响 | 第28页 |
| 3.2.4 轰击角度对MgF_2薄膜光学性能的影响 | 第28-30页 |
| 3.3 MgF_2薄膜沉积及后处理工艺对氧离子轰击效果的影响 | 第30-32页 |
| 3.3.1 薄膜沉积温度对MgF_2薄膜耐氧蚀性的影响 | 第30-31页 |
| 3.3.2 离子束辅助沉积对MgF_2薄膜耐氧蚀性的影响 | 第31页 |
| 3.3.3 退火热处理对MgF_2薄膜耐氧蚀性的影响 | 第31-32页 |
| 3.4 氧离子轰击模拟空间原子氧方法与等效关系 | 第32-35页 |
| 3.5 氧离子轰击对MgF_2薄膜光学性能影响机理研究 | 第35-43页 |
| 3.5.1 氧离子轰击对薄膜折射率的影响研究 | 第35-41页 |
| 3.5.2 MgF_2薄膜氧蚀后的结构模拟与对比分析 | 第41-43页 |
| 3.6 小结 | 第43-45页 |
| 第4章 MgF_2增透膜表面氧化防护层研究 | 第45-55页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 氧化物/MgF_2双层增透膜设计原则 | 第45-46页 |
| 4.3 氧化物/MgF_2系多层增透膜体系设计 | 第46-49页 |
| 4.3.1 MgO/MgF_2系薄膜的设计 | 第46-47页 |
| 4.3.2 SiO_2/MgF_2系薄膜的设计 | 第47-48页 |
| 4.3.3 Al_2O_3/MgF_2系薄膜的设计 | 第48-49页 |
| 4.4 薄膜的结构分析 | 第49页 |
| 4.5 多层薄膜的耐氧蚀性能及改善 | 第49-53页 |
| 4.5.1 MgO/MgF_2系薄膜的耐氧蚀性 | 第49-50页 |
| 4.5.2 SiO_2/MgF_2系薄膜的耐氧蚀性 | 第50-52页 |
| 4.5.3 Al_2O_3/MgF_2系薄膜的耐氧蚀性 | 第52-53页 |
| 4.6 小结 | 第53-55页 |
| 第5章 MgF_2增透膜表面透明导电防静电层研究 | 第55-75页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 氧离子后处理对ITO薄膜结构及性能的影响 | 第55-66页 |
| 5.2.1 氧离子对ITO薄膜结构的影响 | 第55-58页 |
| 5.2.2 氧离子对ITO薄膜电学性能的影响 | 第58-62页 |
| 5.2.3 氧离子对ITO薄膜光学性能的影响 | 第62-66页 |
| 5.3 ITO/MgF_2导电增透膜设计制备与性能分析 | 第66-71页 |
| 5.4 氧离子后处理对ITO/MgF_2薄膜性能的影响 | 第71-74页 |
| 5.5 小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第84页 |
