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龈下缺损邻面提升后全瓷冠边缘适合性的实验研究

中文摘要第4-6页
Abstract第6-7页
缩略语/符号说明第10-11页
前言第11-15页
    研究背景、现状第11-13页
    研究目的、方法第13-15页
1 对象和方法第15-20页
    1.1 实验材料第15-16页
        1.1.1 离体牙收集及处理第15页
        1.1.2 其他材料及器械第15-16页
    1.2 实验方法及流程第16-20页
        1.2.1 试件制备第16-18页
        1.2.2 试件测试第18-20页
        1.2.3 数据处理及分析第20页
2 结果第20-25页
    2.1 临床探查第20-21页
    2.2 间隙印模测定第21-24页
        2.2.1 边缘状态评估第21-22页
        2.2.2 AMD第22页
        2.2.3 MG第22-23页
        2.2.4 IG-400μm第23页
        2.2.5 O&U第23-24页
    2.3 两种方法比较第24-25页
        2.3.1 边缘状态评估第24页
        2.3.2 边缘适合性测定值第24-25页
3 讨论第25-32页
    3.1 边缘适合性的评价方法第25页
    3.2 临床探查第25-27页
    3.3 边缘状态评估第27-28页
    3.4 硅橡胶间隙印模法边缘适合性测定第28-30页
        3.4.1 边缘适合性评价指标第28-29页
        3.4.2 PBE组测定值偏小第29页
        3.4.3 颊舌侧组测定值偏大第29-30页
    3.5 两组方法的比较第30-31页
        3.5.1 边缘状态评估第30页
        3.5.2 边缘适合性测定值第30-31页
    3.6 缺陷及展望第31-32页
结论第32-33页
参考文献第33-38页
附录第38-44页
    1 实验流程图第38-39页
    2 实验器械材料第39-41页
    3 间隙印模制作第41-42页
    4 间隙印模观察第42-43页
    5 硅胶间隙印模数据第43-44页
综述 邻面提升技术的研究进展第44-59页
    综述参考文献第53-59页
致谢第59-60页
个人简历第60页

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