龈下缺损邻面提升后全瓷冠边缘适合性的实验研究
中文摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
缩略语/符号说明 | 第10-11页 |
前言 | 第11-15页 |
研究背景、现状 | 第11-13页 |
研究目的、方法 | 第13-15页 |
1 对象和方法 | 第15-20页 |
1.1 实验材料 | 第15-16页 |
1.1.1 离体牙收集及处理 | 第15页 |
1.1.2 其他材料及器械 | 第15-16页 |
1.2 实验方法及流程 | 第16-20页 |
1.2.1 试件制备 | 第16-18页 |
1.2.2 试件测试 | 第18-20页 |
1.2.3 数据处理及分析 | 第20页 |
2 结果 | 第20-25页 |
2.1 临床探查 | 第20-21页 |
2.2 间隙印模测定 | 第21-24页 |
2.2.1 边缘状态评估 | 第21-22页 |
2.2.2 AMD | 第22页 |
2.2.3 MG | 第22-23页 |
2.2.4 IG-400μm | 第23页 |
2.2.5 O&U | 第23-24页 |
2.3 两种方法比较 | 第24-25页 |
2.3.1 边缘状态评估 | 第24页 |
2.3.2 边缘适合性测定值 | 第24-25页 |
3 讨论 | 第25-32页 |
3.1 边缘适合性的评价方法 | 第25页 |
3.2 临床探查 | 第25-27页 |
3.3 边缘状态评估 | 第27-28页 |
3.4 硅橡胶间隙印模法边缘适合性测定 | 第28-30页 |
3.4.1 边缘适合性评价指标 | 第28-29页 |
3.4.2 PBE组测定值偏小 | 第29页 |
3.4.3 颊舌侧组测定值偏大 | 第29-30页 |
3.5 两组方法的比较 | 第30-31页 |
3.5.1 边缘状态评估 | 第30页 |
3.5.2 边缘适合性测定值 | 第30-31页 |
3.6 缺陷及展望 | 第31-32页 |
结论 | 第32-33页 |
参考文献 | 第33-38页 |
附录 | 第38-44页 |
1 实验流程图 | 第38-39页 |
2 实验器械材料 | 第39-41页 |
3 间隙印模制作 | 第41-42页 |
4 间隙印模观察 | 第42-43页 |
5 硅胶间隙印模数据 | 第43-44页 |
综述 邻面提升技术的研究进展 | 第44-59页 |
综述参考文献 | 第53-59页 |
致谢 | 第59-60页 |
个人简历 | 第60页 |