复合半导体光催化材料Bi2MoO6/ZnSnO3的制备及其对亚甲基蓝降解效果的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 研究背景 | 第12页 |
| 1.2 半导体光催化技术简介 | 第12-14页 |
| 1.2.1 半导体光催化技术的发展进程 | 第12-13页 |
| 1.2.2 半导体光催化技术的原理 | 第13-14页 |
| 1.3 半导体光催化剂的改性 | 第14-18页 |
| 1.3.1 元素掺杂 | 第14-16页 |
| 1.3.2 表面光敏化 | 第16-17页 |
| 1.3.3 贵金属沉积 | 第17页 |
| 1.3.4 构建异质结 | 第17-18页 |
| 1.4 半导体光催化技术的应用 | 第18-19页 |
| 1.5 铋系光催化材料的简介 | 第19-22页 |
| 1.5.1 卤氧化铋半导体光催化剂 | 第20-21页 |
| 1.5.2 含铋氧酸盐半导体光催化剂 | 第21-22页 |
| 1.6 钼酸铋光催化材料的研究进展 | 第22-24页 |
| 1.6.1 钼酸铋光催化材料的结构特性 | 第22-23页 |
| 1.6.2 钼酸铋光催化剂的制备技术 | 第23-24页 |
| 1.7 酸锌光催化剂的研究进展 | 第24-25页 |
| 1.8 本文的研究内容 | 第25-26页 |
| 第2章 材料与方法 | 第26-32页 |
| 2.1 材料与仪器 | 第26-27页 |
| 2.2 光催化材料的制备 | 第27-28页 |
| 2.3 样品表征方法的简介 | 第28-31页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第28页 |
| 2.3.2 傅里叶转换红外光谱(FT-IR) | 第28-29页 |
| 2.3.3 微观形貌结构 | 第29页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第29-30页 |
| 2.3.5 紫外-可见光吸收光谱(UV-Vis) | 第30页 |
| 2.3.6 比表面积的测定方法(BET) | 第30页 |
| 2.3.7 荧光光谱(PL) | 第30-31页 |
| 2.4 可见光催化去除水亚甲基蓝的实验 | 第31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第32-52页 |
| 3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第32-33页 |
| 3.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第33-34页 |
| 3.3 比表面积(BET)分析 | 第34-37页 |
| 3.4 傅立叶转换红外光谱分析(FT-IR) | 第37-38页 |
| 3.5 形貌与结构分析 | 第38-40页 |
| 3.6 紫外-可见漫反射光谱分析(DRS) | 第40-42页 |
| 3.7 光催化活性 | 第42-45页 |
| 3.8 光致发光光谱分析(PL) | 第45-46页 |
| 3.9 循环使用性和稳定性 | 第46-48页 |
| 3.10 光催化机理分析 | 第48-50页 |
| 3.11 本章小结 | 第50-52页 |
| 第4章 结论与展望 | 第52-55页 |
| 4.1 结论 | 第52-53页 |
| 4.2 创新点 | 第53页 |
| 4.3 展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 附录A 攻读学位期间发表的学术论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
