| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| 1.1 钛合金的特点及应用 | 第8-9页 |
| 1.1.1 钛及钛合金 | 第8页 |
| 1.1.2 钛合金的性质 | 第8页 |
| 1.1.3 钛合金的应用 | 第8-9页 |
| 1.2 钛合金的热处理及相变 | 第9-11页 |
| 1.2.1 β钛合金的热处理 | 第9-10页 |
| 1.2.2 β钛合金的相组成 | 第10-11页 |
| 1.3 钛合金的表面处理 | 第11-15页 |
| 1.3.1 化学转化 | 第11-12页 |
| 1.3.2 阳极氧化 | 第12页 |
| 1.3.3 磁控溅射 | 第12-13页 |
| 1.3.4 溶胶凝胶技术 | 第13页 |
| 1.3.5 电镀和化学镀 | 第13-14页 |
| 1.3.6 气相沉积 | 第14-15页 |
| 1.4 微弧氧化技术 | 第15-21页 |
| 1.4.1 微弧氧化技术概述 | 第15-16页 |
| 1.4.2 微弧氧化技术的突出特点 | 第16页 |
| 1.4.3 微弧氧化膜层特性的影响因素 | 第16-19页 |
| 1.4.4 钛合金表面微弧氧化的应用 | 第19-20页 |
| 1.4.5 钛合金表面微弧氧化的发展趋势 | 第20-21页 |
| 1.6 选题目的及意义 | 第21-22页 |
| 1.7 论文的研究内容 | 第22-23页 |
| 1.8 拟采用的技术路线 | 第23-24页 |
| 第二章 实验材料及方法 | 第24-28页 |
| 2.1 实验材料 | 第24-25页 |
| 2.1.1 主要实验材料 | 第24页 |
| 2.1.2 辅助实验材料 | 第24页 |
| 2.1.3 试样的制备过程 | 第24-25页 |
| 2.2 实验设备 | 第25-26页 |
| 2.2.1 微弧氧化 | 第25-26页 |
| 2.2.2 其他设备 | 第26页 |
| 2.3 基体及膜层表征 | 第26-28页 |
| 2.3.1 粗糙度测量 | 第26页 |
| 2.3.2 合金基体电位测量 | 第26页 |
| 2.3.3 电阻率的测量 | 第26页 |
| 2.3.4 膜层厚度测量 | 第26-27页 |
| 2.3.5 表面、截面形貌观察 | 第27页 |
| 2.3.6 相组成分析 | 第27页 |
| 2.3.7 耐腐蚀性测试 | 第27-28页 |
| 第三章 热处理对微弧氧化膜层组织和性能的影响 | 第28-50页 |
| 3.1 热处理工艺对微弧氧化膜特性的影响 | 第28-41页 |
| 3.1.1 不同热处理工艺对基体钛合金显微组织的影响 | 第29-30页 |
| 3.1.2 热处理工艺对钛合金基体电阻率和电位的影响 | 第30-32页 |
| 3.1.3 热处理工艺对微弧氧化膜微观形貌的影响 | 第32-34页 |
| 3.1.4 热处理工艺微弧氧化膜的组成 | 第34-37页 |
| 3.1.5 热处理工艺对微弧氧化厚度及粗糙度的影响 | 第37-39页 |
| 3.1.6 微弧氧化与热处理的交互影响 | 第39-41页 |
| 3.2 固溶+时效处理对微弧氧化膜特性的影响 | 第41-50页 |
| 3.2.1 不同固溶+时效热处理工艺基体的显微组织 | 第41-42页 |
| 3.2.2 不同固溶+时效热处理工艺对电位和起弧电压的影响 | 第42-44页 |
| 3.2.3 不同固溶+时效热处理对微弧氧化膜层的微观形貌的影响 | 第44-46页 |
| 3.2.4 不同固溶+时效热处理微弧氧化膜层的相组成 | 第46-47页 |
| 3.2.5 固溶+时效热处理对微弧氧化膜粗糙度和厚度的影响 | 第47-48页 |
| 3.2.6 固溶+时效热处理对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第48-50页 |
| 第四章 热处理对微弧氧化膜初期生长过程的影响 | 第50-59页 |
| 4.1 起弧电压及氧化膜厚度 | 第50-51页 |
| 4.2 不同微弧氧化处理阶段的氧化膜微观形貌 | 第51-55页 |
| 4.3 不同微弧氧化处理阶段氧化膜的能谱分析 | 第55页 |
| 4.4 不同微弧氧化阶段的氧化膜的相组成 | 第55-56页 |
| 4.5 不同微弧氧化阶段的微弧氧化膜粗糙度 | 第56页 |
| 4.6 不同微弧氧化阶段的微弧氧化膜的耐蚀性 | 第56-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
