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电磁可控Goos-H(?)nchen位移理论研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第12-18页
    1.1 Goos-H?nchen位移简介第12-13页
    1.2 Goos-H?nchen位移研究进展第13-15页
    1.3 Goos-H?nchen位移效应的应用第15-16页
    1.4 本文的研究内容及创新之处第16-18页
第2章 Goos-H?nchen位移理论研究主要方法第18-35页
    2.1 stationaryphase方法第18-22页
    2.2 能流方法第22-25页
    2.3 高斯光束Goos-H?nchen位移第25-28页
    2.4 多层结构中光束的反射系数与透射系数第28-33页
        2.4.1 麦克斯韦方程组第28-29页
        2.4.2 边界条件及反射与折射第29-30页
        2.4.3 传输矩阵与反射(透射)系数第30-33页
    2.5 小结第33-35页
第3章 几种结构的电控Goos-H?nchen位移研究第35-54页
    3.1 引言第35页
    3.2 基于电光晶体的电控Goos-H?nchen位移第35-40页
        3.2.1 模型与理论推导第35-38页
        3.2.2 实验结果与讨论第38-40页
    3.3 基于金半结的电控Goos-H?nchen位移第40-48页
        3.3.1 模型与理论推导第40-43页
        3.3.2 数值计算与数值模似第43-48页
    3.4 基于PMN-PT透明陶瓷的电控Goos-H?nchen位移第48-53页
        3.4.1 PMN-PT透明陶瓷材料简介第48-49页
        3.4.2 基于PMN-PT透明陶瓷的Goos-H?nchen位移理论模型第49-50页
        3.4.3 理论计算与分析第50-53页
    3.5 小结第53-54页
第4章 基于铁磁流体的磁可控Goos-H?nchen位移研究第54-76页
    4.1 引言第54-55页
    4.2 基于各向异性铁磁流体的磁控Goos-H?nchen位移第55-65页
        4.2.1 腔体结构理论模型第55页
        4.2.2 Goos-H?nchen位移的理论计算第55-56页
        4.2.3 铁磁流体的等效介电常数张量第56-59页
        4.2.4 外磁场对Goos-H?nchen位移的控制作用第59-61页
        4.2.5 结构优化第61-64页
        4.2.6 高斯光束Goos-H?nchen位移的实时仿真第64-65页
    4.3 含各向同性铁磁流体腔体结构的Goos-H?nchen位移第65-74页
        4.3.1 腔体结构理论模型第65-66页
        4.3.2 腔体结构Goos-H?nchen位移的理论计算第66-68页
        4.3.3 结果与讨论第68-74页
    4.4 小结第74-76页
第5章 总结与展望第76-78页
参考文献第78-90页
附录A 已发表与待发表的的论文第90-91页
致谢第91页

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