二维狄拉克材料的空间自相位调制效应研究
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第1章 绪论 | 第12-28页 |
1.1 研究的背景及意义 | 第12-13页 |
1.2 石墨烯 | 第13-15页 |
1.2.1 石墨烯简介 | 第13-14页 |
1.2.2 石墨烯非线性光学研究进展 | 第14-15页 |
1.3 拓扑绝缘体 | 第15-18页 |
1.3.1 拓扑绝缘体 | 第15-17页 |
1.3.2 拓扑绝缘体非线性光学研究进展 | 第17-18页 |
1.4 非线性光学效应概述 | 第18-27页 |
1.4.1 非线性光学简述 | 第18-19页 |
1.4.2 光学克尔效应 | 第19-22页 |
1.4.3 光束的自聚焦与自散焦 | 第22-23页 |
1.4.4 非线性测量方法 | 第23-27页 |
1.5 本文的主要研究内容及框架 | 第27-28页 |
第2章 空间自相位调制及相关理论 | 第28-35页 |
2.1 空间自相位调制原理 | 第28-29页 |
2.2 空间自相位调制理论模型 | 第29-33页 |
2.3 空间自相位调制数值研究 | 第33-34页 |
2.4 小结 | 第34-35页 |
第3章 石墨烯的空间自相位调制 | 第35-51页 |
3.1 材料制备及表征 | 第35-41页 |
3.1.1 石墨烯的制备 | 第35-37页 |
3.1.2 石墨烯的表征 | 第37-39页 |
3.1.3 石墨烯分散液的线性光学性能 | 第39-41页 |
3.2 石墨烯分散液的SSPM研究 | 第41-50页 |
3.2.1 实验装置 | 第41-42页 |
3.2.2 宽波段下石墨烯的SSPM效应 | 第42-44页 |
3.2.3 632.8nm光源下实验分析 | 第44-50页 |
3.3 小结 | 第50-51页 |
第4章 拓扑绝缘体的空间自相位调制 | 第51-77页 |
4.1 材料制备及表征 | 第51-56页 |
4.1.1 碲化铋的制备 | 第51-53页 |
4.1.2 碲化铋的表征 | 第53-56页 |
4.1.3 碲化铋分散液的线性光学性能 | 第56页 |
4.2 拓扑绝缘体分散液的SSPM研究 | 第56-75页 |
4.2.1 实验装置 | 第56-57页 |
4.2.2 宽波段下碲化铋的SSPM效应 | 第57-60页 |
4.2.3 632.8nm光源下实验分析 | 第60-68页 |
4.2.4 1070nm光源下实验分析 | 第68-75页 |
4.3 小结 | 第75-77页 |
第5章 总结与展望 | 第77-79页 |
5.1 总结 | 第77页 |
5.2 展望 | 第77-79页 |
参考文献 | 第79-87页 |
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第87-88页 |
致谢 | 第88页 |