摘要 | 第5-7页 |
abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-26页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 磁电材料的发展历程 | 第12-15页 |
1.3 磁电材料及磁电效应 | 第15-22页 |
1.3.1 磁电材料的种类 | 第15-16页 |
1.3.2 表面磁电效应 | 第16-18页 |
1.3.3 界面磁电效应 | 第18-20页 |
1.3.4 高频磁电效应 | 第20-22页 |
1.4 磁电材料的潜在应用 | 第22-24页 |
1.5 本论文的选题意义及研究内容 | 第24-26页 |
第二章 磁性薄膜的制备及性能表征 | 第26-37页 |
2.1 磁性薄膜的制备 | 第26-27页 |
2.2 磁性材料的表征测试 | 第27-34页 |
2.2.1 常规性能表征 | 第27-28页 |
2.2.2 磁致伸缩系数的测量 | 第28-31页 |
2.2.3 巨杨氏模量的测量 | 第31-33页 |
2.2.4 单轴各向异性的测量 | 第33-34页 |
2.3 磁电测量系统的设计与原理 | 第34-36页 |
2.4 本章小结 | 第36-37页 |
第三章 多层膜化对FeSiBC薄膜性能的调控 | 第37-50页 |
3.1 引言 | 第37页 |
3.2 膜厚对FeSiBC薄膜软磁性能的影响 | 第37-41页 |
3.3 多层膜化调控FeSiBC薄膜性能 | 第41-48页 |
3.3.1 插铜对FeSiBC薄膜的性能研究 | 第41-45页 |
3.3.2 插CoFe和CoCu对FeSiBC薄膜的性能研究 | 第45-48页 |
3.4 磁致伸缩系数的测试结果 | 第48-49页 |
3.5 本章小结 | 第49-50页 |
第四章 CoFeB非晶薄膜的制备及性能调控 | 第50-75页 |
4.1 引言 | 第50页 |
4.2 CoFeB薄膜软磁性能的调控 | 第50-57页 |
4.2.1 直流磁控溅射的功率对CoFeB软磁性能的影响 | 第50-52页 |
4.2.2 直流磁控溅射的气压对CoFeB软磁性能的影响 | 第52-54页 |
4.2.3 射频磁控溅射的功率和气压对CoFeB软磁性能的影响 | 第54-57页 |
4.3 CoFeB双峰实验现象的研究 | 第57-68页 |
4.3.1 倾斜溅射CoFeB薄膜装置 | 第58-59页 |
4.3.2 厚度对倾斜溅射CoFeB薄膜性能的影响 | 第59-60页 |
4.3.3 转动基片倾斜溅射CoFeB薄膜 | 第60-65页 |
4.3.4 外加原位诱导磁场倾斜溅射CoFeB薄膜 | 第65-68页 |
4.4 CoFeB双难轴实验现象的研究 | 第68-74页 |
4.4.1 CoFeB薄膜的调控制备及磁性特征 | 第68-71页 |
4.4.2 双难轴样品的MOKE曲线研究 | 第71-74页 |
4.5 本章小结 | 第74-75页 |
第五章 FeSiBC/PMN-PT及CoFeB/PMN-PT异质结磁电性能研究 | 第75-100页 |
5.1 引言 | 第75页 |
5.2 压电陶瓷PMN-PT基底的性能和回收 | 第75-79页 |
5.2.1 PMN-PT的压电常数测试及形貌表征 | 第75-77页 |
5.2.2 PMN-PT的常温抛光回收 | 第77-79页 |
5.3 异质结FeSiBC/PMN-PT的性能研究 | 第79-94页 |
5.3.1 异质结FeSiBC/PMN-PT单轴磁各向异性的研究 | 第79-84页 |
5.3.2 倾斜溅射FeSiBC的实验研究 | 第84-88页 |
5.3.3 倾斜溅射FeSiBC/PMN-PT的磁电性能研究 | 第88-94页 |
5.4 CoFeB/PMN-PT异质结的磁电性能研究 | 第94-98页 |
5.4.1 [100]和[110]-cutPMN-PT对CoFeB磁性能的影响 | 第94-95页 |
5.4.2 倾斜溅射CoFeB/PMN-PT的磁电性能研究 | 第95-98页 |
5.5 本章小结 | 第98-100页 |
第六章 结论 | 第100-103页 |
6.1 主要结论及创新点 | 第100-101页 |
6.2 后续工作展望 | 第101-103页 |
致谢 | 第103-104页 |
参考文献 | 第104-116页 |
攻读博士学位期间取得的成果 | 第116页 |