低真空度下四极场中离子操作模式研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外发展现状 | 第9-11页 |
| 1.2.1 离子阱的发展现状 | 第9-10页 |
| 1.2.2 低真空度下质谱技术研究现状 | 第10-11页 |
| 1.3 本文的主要研究内容及结构 | 第11-13页 |
| 第2章 离子阱质量分析器 | 第13-28页 |
| 2.1 SIMION简单介绍 | 第13页 |
| 2.2 SIMION工作过程 | 第13-16页 |
| 2.2.1 电极几何定义 | 第13-14页 |
| 2.2.2 用户编程文件 | 第14页 |
| 2.2.3 离子定义以及轨迹求解 | 第14-15页 |
| 2.2.4 数据记录 | 第15页 |
| 2.2.5 工作界面 | 第15-16页 |
| 2.3 质谱仪器简单介绍 | 第16-17页 |
| 2.4 离子阱质量分析器简单介绍 | 第17-19页 |
| 2.5 线性离子阱相关理论 | 第19-26页 |
| 2.5.1 线性离子阱模型 | 第19-20页 |
| 2.5.2 离子阱中四极场电势 | 第20-22页 |
| 2.5.3 离子阱中离子运动方程 | 第22-23页 |
| 2.5.4 马修方程及其解 | 第23-24页 |
| 2.5.5 离子运动稳定区 | 第24-26页 |
| 2.5.6 离子运动久期频率 | 第26页 |
| 2.6 本章小结 | 第26-28页 |
| 第3章 低真空度下相关理论 | 第28-39页 |
| 3.1 质谱仪真空系统 | 第28页 |
| 3.2 碰撞过程 | 第28-33页 |
| 3.2.1 质谱分析中的分子离子碰撞过程 | 第29页 |
| 3.2.2 Langevin碰撞模型 | 第29-30页 |
| 3.2.3 Hardshpere碰撞模型 | 第30页 |
| 3.2.4 碰撞模型模拟比较 | 第30-33页 |
| 3.3 低真空度下马修方程 | 第33-35页 |
| 3.4 低真空度下离子阱稳定图 | 第35-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 离子操作模式 | 第39-50页 |
| 4.1 质谱仪性能指标 | 第39页 |
| 4.2 离子阱操作模式 | 第39-43页 |
| 4.2.1 捕获 | 第40页 |
| 4.2.2 冷却 | 第40页 |
| 4.2.3 扫描 | 第40-42页 |
| 4.2.4 常见的离子阱操作模式 | 第42-43页 |
| 4.3 低真空度下离子操作模式仿真 | 第43-48页 |
| 4.3.1 离子冷却 | 第43-44页 |
| 4.3.2 离子扫描 | 第44-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
