| 中文摘要 | 第3-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 几种过渡金属氧化物的研究背景 | 第9-12页 |
| 1.1.1 二氧化钛 | 第9-10页 |
| 1.1.2 氧化锌 | 第10-11页 |
| 1.1.3 氧化镍 | 第11-12页 |
| 1.2 几种过渡金属氧化物的表面研究 | 第12-15页 |
| 1.2.1 二氧化钛表面 | 第12页 |
| 1.2.2 氧化锌表面 | 第12-14页 |
| 1.2.3 氧化镍表面 | 第14-15页 |
| 1.3 过渡金属氧化物中的缺陷 | 第15-17页 |
| 1.3.1 缺陷的分类 | 第15-16页 |
| 1.3.2 缺陷的作用 | 第16页 |
| 1.3.3 氧空位对材料性质的影响 | 第16-17页 |
| 1.4 本论文的研究目的和内容 | 第17-19页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第17页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第17-19页 |
| 2 理论基础 | 第19-29页 |
| 2.1 第一性原理简介 | 第19-25页 |
| 2.1.1 Born-Oppenheimer (BO) 近似 | 第20页 |
| 2.1.2 Hartree-Fock(HF) 近似 | 第20页 |
| 2.1.3 密度泛函理论(Density Functional Theory, DFT) | 第20-25页 |
| 2.2 DFT+U方法简介 | 第25-26页 |
| 2.2.1 DFT+U必要性 | 第25-26页 |
| 2.2.2 DFT+U理论 | 第26页 |
| 2.3 Materials Studio (MS) 中CASTEP程序包简介 | 第26-29页 |
| 2.3.1 CASTEP功能简介 | 第26页 |
| 2.3.2 能带理论简介 | 第26-27页 |
| 2.3.3 总态密度和分态密度 | 第27-29页 |
| 3 氧空位对TiO_2 性质的影响 | 第29-39页 |
| 3.1 计算模型与计算方法 | 第29-32页 |
| 3.1.1 计算模型 | 第29-31页 |
| 3.1.2 计算方法 | 第31-32页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第32-37页 |
| 3.2.1 氧空位缺陷形成能 | 第32页 |
| 3.2.2 能带结构和态密度 | 第32-36页 |
| 3.2.3 光学性质 | 第36-37页 |
| 3.3 小结 | 第37-39页 |
| 4 氧空位对ZnO性质的影响 | 第39-50页 |
| 4.1 计算模型和计算方法 | 第39-41页 |
| 4.1.1 计算模型 | 第39-40页 |
| 4.1.2 计算方法 | 第40-41页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第41-48页 |
| 4.2.1 氧空位缺陷形成能 | 第41页 |
| 4.2.2 能带结构和态密度 | 第41-45页 |
| 4.2.3 光学性质 | 第45-48页 |
| 4.3 小结 | 第48-50页 |
| 5 氧空位对NiO性质的影响 | 第50-62页 |
| 5.1 计算模型和计算方法 | 第50-52页 |
| 5.1.1 计算模型 | 第50-51页 |
| 5.1.2 计算方法 | 第51-52页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第52-60页 |
| 5.2.1 氧空位缺陷形成能 | 第52-53页 |
| 5.2.2 能带结构和态密度 | 第53-56页 |
| 5.2.3 电学性质 | 第56-60页 |
| 5.3 小结 | 第60-62页 |
| 6 总结与展望 | 第62-64页 |
| 6.1 总结 | 第62-63页 |
| 6.2 展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 附录 | 第72页 |
| A.攻读硕士期间的科研成果 | 第72页 |
