| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 1 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 镀膜的几种方法 | 第11-14页 |
| 1.1.1 化学方法制备薄膜 | 第11-13页 |
| 1.1.2 物理方法制备薄膜 | 第13-14页 |
| 1.2 不同构成的超高真空系统 | 第14-16页 |
| 1.2.1 用钛泵或溅射离子泵作为主泵 | 第14页 |
| 1.2.2 钛泵超高真空系统（扩散泵系统） | 第14-15页 |
| 1.2.3 扩散泵系统 | 第15-16页 |
| 1.3 DLC（Diamond-Like Carbon）薄膜材料 | 第16-19页 |
| 1.3.1 非晶碳基薄膜材料 | 第16-17页 |
| 1.3.2 DLC薄膜的性能 | 第17-18页 |
| 1.3.3 DLC膜的应用 | 第18-19页 |
| 1.4 DLC薄膜的摩擦学研究现状 | 第19-20页 |
| 1.5 论文的选题依据及研究内容 | 第20-22页 |
| 2 DLC薄膜沉积设备设计部分 | 第22-48页 |
| 2.1 DLC镀膜设备的设计原则与选型要求 | 第22-26页 |
| 2.1.1 DLC镀膜设备的设计原则 | 第22-23页 |
| 2.1.2 DLC镀膜设备的选型要求 | 第23-26页 |
| 2.1.3 DLC镀膜设备的设计思路 | 第26页 |
| 2.2 DLC镀膜室的设计 | 第26-32页 |
| 2.2.1 DLC镀膜设备对抽气系统的要求 | 第26-27页 |
| 2.2.2 DLC镀膜室的设计 | 第27-32页 |
| 2.3 DLC镀膜设备的设计 | 第32-42页 |
| 2.3.1 真空系统的设计要求 | 第32页 |
| 2.3.2 DLC镀膜设备内的总放气量 | 第32-35页 |
| 2.3.3 主泵的选择 | 第35-38页 |
| 2.3.4 前级泵的抽速计算 | 第38-39页 |
| 2.3.5 钛泵的选择 | 第39页 |
| 2.3.6 抽气时间的计算 | 第39-42页 |
| 2.4 DLC镀膜设备的安装布局 | 第42-44页 |
| 2.4.1 设备的总体布局 | 第42页 |
| 2.4.2 抽气管路流程 | 第42-43页 |
| 2.4.3 安装位置 | 第43-44页 |
| 2.5 RF-DC双电源CVD镀膜设备 | 第44-46页 |
| 2.6 结论 | 第46-48页 |
| 3 DLC薄膜沉积在不同金属上的摩擦特性 | 第48-74页 |
| 3.1 DLC薄膜沉积过程及生长机理 | 第50-58页 |
| 3.1.1 等离子体概述 | 第50-53页 |
| 3.1.2 等离子体增强化学气相沉积 | 第53-56页 |
| 3.1.3 薄膜的形成与生长 | 第56-57页 |
| 3.1.4 连续薄膜的形成 | 第57-58页 |
| 3.2 实验方法 | 第58-61页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第61-72页 |
| 3.3.1 DLC薄膜与金属基材的结合状态研究 | 第61-64页 |
| 3.3.2 在Ti基材上沉积a-Si：H-DLC复合薄膜的摩擦特性评价 | 第64-66页 |
| 3.3.3 在Ti-6Al-4V基材上沉积a-Si:H-DLC复合薄膜的摩擦特性评价 | 第66-68页 |
| 3.3.4 在S45C基材上沉积a-Si:H-DLC复合薄膜的摩擦特性评价 | 第68-70页 |
| 3.3.5 载荷对a-Si:H-DLC复合薄膜的破坏寿命的影响 | 第70-72页 |
| 3.4 结论 | 第72-74页 |
| 4 结束语 | 第74-77页 |
| 4.1 本论文的主要内容及结论 | 第75-76页 |
| 4.2 DLC薄膜研究中存在的问题及发展趋势 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-80页 |
| 附录A | 第80-82页 |
| 附录B | 第82-83页 |
| 附录C | 第83-84页 |
| 作者简历及在学期间研究成果与发表的学术论文 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
