| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 重金属离子污染及检测手段 | 第11-12页 |
| 1.1.1 重金属离子污染 | 第11页 |
| 1.1.2 铜离子的检测手段 | 第11-12页 |
| 1.2 光电化学传感器的概述 | 第12-18页 |
| 1.2.1 光电化学传感器的原理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 光电化学传感器性能的主要影响因素 | 第13-14页 |
| 1.2.3 光电化学传感器的应用 | 第14-18页 |
| 1.3 氧化亚铜在光电化学领域的应用 | 第18-19页 |
| 1.4 本课题的提出及其主要研究方法和内容 | 第19-21页 |
| 第二章 实验部分 | 第21-30页 |
| 2.1 实验主要药剂与仪器 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验所用的主要试剂 | 第21页 |
| 2.1.2 实验所用的主要仪器 | 第21-22页 |
| 2.2 氧化亚铜的制备 | 第22-24页 |
| 2.2.1 制备方法 | 第22页 |
| 2.2.2 实验过程 | 第22-24页 |
| 2.3 表征 | 第24-30页 |
| 2.3.1 材料的表征 | 第24-25页 |
| 2.3.2 光电化学性能表征 | 第25-30页 |
| 第三章 氢氧化铜量子点/氧化亚铜/泡沫铜电极的制备及光电性能的研究 | 第30-50页 |
| 3.1 引言 | 第30-31页 |
| 3.2 实验部分 | 第31-32页 |
| 3.2.1 沉积液和缓冲液的配置 | 第31页 |
| 3.2.2 泡沫铜/氧化亚铜电极的制备 | 第31-32页 |
| 3.2.3 氢氧化铜氧化亚铜混合物/泡沫铜电极的制备 | 第32页 |
| 3.3 材料表征 | 第32-37页 |
| 3.3.1 X射线衍射分析 | 第32-33页 |
| 3.3.2 形貌表征 | 第33-36页 |
| 3.3.3 紫外吸收光谱测试 | 第36-37页 |
| 3.4 原理分析 | 第37-39页 |
| 3.4.1 电沉积氧化亚铜及氢氧化铜原理分析 | 第37-39页 |
| 3.4.2 氧化亚铜与氢氧化铜的协同作用原理 | 第39页 |
| 3.5 实验优化 | 第39-47页 |
| 3.5.1 氧化亚铜/泡沫铜电极实验优化 | 第39-42页 |
| 3.5.2 氢氧化铜氧化亚铜混合物/泡沫铜电极的实验优化 | 第42-45页 |
| 3.5.3 测试偏压的优化 | 第45-47页 |
| 3.6 基底对比 | 第47-49页 |
| 3.6.1 光电响应对比 | 第47-48页 |
| 3.6.2 稳定性对比 | 第48-49页 |
| 3.7 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 氧化铜量子点/氧化亚铜/rGO/泡沫铜电极的制备及光电性能的研究 | 第50-64页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 实验过程 | 第50-52页 |
| 4.2.1 石墨烯溶液、沉积液和缓冲液的制备 | 第51页 |
| 4.2.2 rGO/泡沫铜电极的制备 | 第51页 |
| 4.2.3 石墨烯修饰的氧化铜量子点/氧化亚铜/泡沫铜电极的制备 | 第51-52页 |
| 4.3 材料表征 | 第52-57页 |
| 4.4 原理分析 | 第57-59页 |
| 4.4.1 氧化铜量子点制备原理 | 第58页 |
| 4.4.2 氧化亚铜与氢氧化铜的协同作用原理 | 第58-59页 |
| 4.5 氧化铜/氧化亚铜/泡沫铜电极的实验优化 | 第59-61页 |
| 4.5.1 石墨烯浓度的优化 | 第59-60页 |
| 4.5.2 温度、沉积电压及沉积时间等的优化 | 第60页 |
| 4.5.3 测试偏压的优化 | 第60-61页 |
| 4.6 基底对比 | 第61-63页 |
| 4.6.1 光电响应对比 | 第61-62页 |
| 4.6.2 稳定性 | 第62-63页 |
| 4.7 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读硕士期间公开发表的论文 | 第71页 |
