双向不对称脉冲型微弧氧化电源研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-14页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 微弧氧化技术国内外发展现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 微弧氧化技术发展史 | 第10页 |
| 1.2.2 微弧氧化电源国内外发展现状 | 第10-13页 |
| 1.3 课题研究意义及研究内容 | 第13-14页 |
| 第2章 微弧氧化机理研究及电源设计要求 | 第14-22页 |
| 2.1 微弧氧化工艺过程研究 | 第14-15页 |
| 2.1.1 阳极氧化阶段 | 第14页 |
| 2.1.2 微弧氧化阶段 | 第14-15页 |
| 2.1.3 大弧放电阶段 | 第15页 |
| 2.2 微弧氧化膜层生长机理研究 | 第15-17页 |
| 2.2.1 微区放电的条件 | 第15页 |
| 2.2.2 微区电弧放电过程 | 第15-16页 |
| 2.2.3 微区电弧的热循环 | 第16-17页 |
| 2.3 微弧氧化负载特性研究 | 第17-20页 |
| 2.3.1 不同阶段微弧氧化负载电气模型 | 第17-18页 |
| 2.3.2 负载模型参数计算与仿真 | 第18-20页 |
| 2.4 微弧氧化电源设计要求 | 第20-21页 |
| 2.5 本章小结 | 第21-22页 |
| 第3章 微弧氧化电源硬件设计 | 第22-34页 |
| 3.1 电源总体设计方案 | 第22页 |
| 3.2 主电路设计 | 第22-26页 |
| 3.2.1 整流电路设计 | 第23页 |
| 3.2.2 斩波电路设计 | 第23-26页 |
| 3.2.3 逆变电路设计 | 第26页 |
| 3.3 微弧氧化电源主控系统硬件设计 | 第26-32页 |
| 3.3.1 单片机控制系统 | 第26-27页 |
| 3.3.2 IGBT驱动电路设计 | 第27-30页 |
| 3.3.3 电压、电流采样电路设计 | 第30-32页 |
| 3.3.4 IGBT驱动供电电路设计 | 第32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-34页 |
| 第4章 微弧氧化电源控制系统软件设计 | 第34-48页 |
| 4.1 电参数调节方式 | 第34-37页 |
| 4.1.1 输出电压调节方式 | 第34-36页 |
| 4.1.2 输出频率与占空比调节方式 | 第36页 |
| 4.1.3 A/D转换程序设计 | 第36-37页 |
| 4.2 电源加载方式的控制过程 | 第37-45页 |
| 4.2.1 模糊PID控制器工作原理 | 第37-38页 |
| 4.2.2 模糊PID控制器的参数调节基本原则 | 第38-39页 |
| 4.2.3 模糊PID控制器设计 | 第39-40页 |
| 4.2.4 模糊PID控制系统模型与仿真分析 | 第40-43页 |
| 4.2.5 双闭环控制方式 | 第43-45页 |
| 4.3 人机界面与通讯程序的设计 | 第45-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第5章 试验与验证 | 第48-55页 |
| 5.1 微弧氧化试验前处理与电源上电调试 | 第48-51页 |
| 5.2 实验现象及分析 | 第51-52页 |
| 5.3 两种控制算法加工效果比较 | 第52-54页 |
| 5.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第6章 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 在学研究成果 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
