摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第14-28页 |
1.引言 | 第14-28页 |
1.1 磁光效应 | 第14-16页 |
1.2 磁光器件 | 第16-18页 |
1.3 常见磁光材料 | 第18-22页 |
1.3.1 磁光玻璃 | 第19页 |
1.3.2 YIG | 第19-20页 |
1.3.3 TGG | 第20页 |
1.3.4 TAG | 第20-22页 |
1.4 TAG磁光透明陶瓷的研究进展 | 第22-26页 |
1.4.1 透明陶瓷的发展和优点 | 第23-24页 |
1.4.2 磁光透明陶瓷的发展 | 第24-25页 |
1.4.3 TAG磁光透明陶瓷的发展 | 第25-26页 |
1.5 课题的提出 | 第26-28页 |
第二章 透明陶瓷的制备及性能测试方法 | 第28-38页 |
2.1 透明陶瓷的制备工艺 | 第28-34页 |
2.1.1 粉体的制备工艺 | 第29-30页 |
2.1.2 素坯成型 | 第30-31页 |
2.1.3 烧结工艺 | 第31-34页 |
2.2 分析测试方法 | 第34-38页 |
2.2.1 差示扫描量热-热重同步热分析仪 | 第34页 |
2.2.2 X-射线衍射仪 | 第34-35页 |
2.2.3 扫描电子显微镜 | 第35页 |
2.2.4 紫外-可见-近红外分光光度计 | 第35-36页 |
2.2.5 阿基米德排水法 | 第36-38页 |
第三章 烧结助剂MgO对TAG透明陶瓷的影响 | 第38-46页 |
3.1 TAG透明陶瓷的制备工艺 | 第38页 |
3.2 结果与讨论 | 第38-45页 |
3.2.1 球磨后粉体的分散性 | 第38-39页 |
3.2.2 添加不同MgO浓度的烧结助剂对TAG陶瓷物相的影响 | 第39-40页 |
3.2.3 MgO烧结助剂对TAG陶瓷显微结构的影响 | 第40-43页 |
3.2.4 HIP后TAG透明陶瓷显微结构的变化 | 第43-44页 |
3.2.5 HIP后不同MgO浓度的烧结助剂下TAG透明陶瓷的光学质量 | 第44-45页 |
3.3 本章小结 | 第45-46页 |
第四章 组分配比对TAG透明陶瓷的影响 | 第46-64页 |
4.1 不同Al_2O_3添加量的计算 | 第46-48页 |
4.1.1 Tb_4O_7原料粉体的性质 | 第46-48页 |
4.1.2 Al_2O_3添加量的计算 | 第48页 |
4.2 TAG透明陶瓷的制备工艺 | 第48页 |
4.3 结果与讨论 | 第48-62页 |
4.3.1 物相分析 | 第48-50页 |
4.3.2 不同Al_2O_3添加量对样品微观结构的影响 | 第50-57页 |
4.3.3 不同Al_2O_3添加量对样品透过率的影响 | 第57-62页 |
4.4 本章小结 | 第62-64页 |
总结与展望 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-76页 |
致谢 | 第76-78页 |
作者简历 | 第78-80页 |
学位论文数据集 | 第80页 |