| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 引言 | 第9-17页 |
| 1.1 铜互连技术 | 第9-13页 |
| 1.1.1 互连技术研究的重要性 | 第9-10页 |
| 1.1.2 铜互连技术的提出及优点 | 第10-12页 |
| 1.1.3 铜互连技术存在的问题及解决方法 | 第12-13页 |
| 1.2 铁电材料 | 第13-15页 |
| 1.2.1 铁电材料概述 | 第13-14页 |
| 1.2.2 PbZr_xTi_(1-x)O_3(PZT)及 Ba_xSr_(1-x)TiO_3(BST)铁电材料的结构和性能 | 第14-15页 |
| 1.3 铜互连与铁电薄膜集成的重要性及难点 | 第15-16页 |
| 1.4 本论文的研究意义及其主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 N引入对Ti-Al扩散阻挡层结构和性能的影响 | 第17-25页 |
| 2.1 实验过程 | 第17-19页 |
| 2.1.1 Cu和阻挡层薄膜的制备 | 第17-18页 |
| 2.1.2 实验材料和制备过程 | 第18-19页 |
| 2.2 样品表征方法 | 第19-20页 |
| 2.2.1 X 射线衍射法(XRD) | 第19页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第19-20页 |
| 2.3 实验结果与分析 | 第20-24页 |
| 2.4 结论 | 第24-25页 |
| 第3章 非晶Ti-Al薄膜用作Si基铁电电容器Pt/BST/Pt缓冲层的研究 | 第25-32页 |
| 3.1 实验过程 | 第25-26页 |
| 3.1.1 BST薄膜的制备工艺 | 第25-26页 |
| 3.1.2 实验材料和制备过程 | 第26页 |
| 3.2 非晶Ti-Al薄膜对Pt/BST/Pt电容器结构和性能的影响分析 | 第26-30页 |
| 3.3 小结 | 第30-32页 |
| 第4章 Si基含Cu铁电电容器集成的研究 | 第32-41页 |
| 4.1 sol-gel 法制备 PZT 铁电薄膜与 Cu 互连的集成 | 第32-33页 |
| 4.2 sol-gel法制备LSCO/PZT/LSCO电容器的实验过程 | 第33-34页 |
| 4.3 LSCO/PZT/LSCO 电容器结构和铁电性能的测量 | 第34-40页 |
| 4.3.1 铁电测试仪 | 第35页 |
| 4.3.2 实验结果与分析 | 第35-40页 |
| 4.4 小结 | 第40-41页 |
| 结束语 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 攻读学位期间取得的科研成果 | 第47页 |