摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第10-20页 |
1.1 磁惯性约束聚变 | 第10-12页 |
1.2 磁化靶聚变 | 第12-14页 |
1.3 反场构型等离子体 | 第14-17页 |
1.4 磁化靶聚变的最新发展与存在的问题 | 第17-20页 |
2. PIC/MC 模拟的一般方法 | 第20-32页 |
2.1 概述 | 第20-21页 |
2.2 PIC 基本框架 | 第21-27页 |
2.3 蒙特卡洛方法 | 第27-32页 |
3. 反场构型预电离等离子体的 PIC/MC 模拟 | 第32-42页 |
3.1 物理模型简化 | 第32-35页 |
3.2 数值模型 | 第35-42页 |
4. 反场构型预电离等离子体的一维隐格式 PIC/MC 模拟 | 第42-47页 |
4.1 模拟参数 | 第42页 |
4.2 Bias 磁场大小对放电的影响 | 第42-44页 |
4.3 电场强度对放电的影响 | 第44-45页 |
4.4 气压大小对放电的影响 | 第45-47页 |
5. 反场构型预电离等离子体的柱坐标二维隐格式 PIC/MC 模拟 | 第47-60页 |
5.1 模拟参数 | 第47页 |
5.2 Bias 磁场大小对 PI 放电的影响 | 第47-52页 |
5.3 电场强度对放电的影响 | 第52-56页 |
5.4 气压大小对放电的影响 | 第56-60页 |
6. 总结与展望 | 第60-65页 |
6.1 1D 模拟结论 | 第60-61页 |
6.2 2D Type A 模型模拟结论 | 第61-62页 |
6.3 2D Type B 模型模拟结论 | 第62-63页 |
6.4 对实验参数选取的参考意见 | 第63页 |
6.5 展望 | 第63-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-72页 |