摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
1 综述 | 第17-31页 |
1.1 前言 | 第17页 |
1.2 非磁化等离子体鞘层理论简介 | 第17-22页 |
1.2.1 非磁化等离子体鞘层的形成 | 第17-19页 |
1.2.2 非磁化等离子体鞘层的简单模型及Bohm判据 | 第19-21页 |
1.2.3 预鞘 | 第21-22页 |
1.3 磁化等离子体鞘层理论简介 | 第22-23页 |
1.4 探针诊断原理 | 第23-29页 |
1.4.1 实验中的诊断方法简介 | 第23-24页 |
1.4.2 Langmuir探针 | 第24-26页 |
1.4.3 发射探针 | 第26-29页 |
1.5 本论文的研究工作 | 第29-31页 |
2 实验装置及诊断系统简介 | 第31-39页 |
2.1 实验装置简介 | 第31-33页 |
2.2 线圈所产生磁场的模拟 | 第33-35页 |
2.3 本实验所用诊断设施简介 | 第35-38页 |
2.3.1 平面Langmuir探针 | 第35-36页 |
2.3.2 平面Langmuir探针收集流曲线分析 | 第36-37页 |
2.3.3 发射探针 | 第37-38页 |
2.4 本章小结 | 第38-39页 |
3 等离子体状态的诊断分析 | 第39-53页 |
3.1 前言 | 第39页 |
3.2 真空室中各设施及磁场的相对位置 | 第39-41页 |
3.3 磁镜场中的等离子体状态 | 第41-47页 |
3.3.1 移除金属平板时实验区域的等离子体状态 | 第41-44页 |
3.3.2 存在金属平板时实验区域的等离子体状态 | 第44-47页 |
3.4 会切位形磁场中的等离子体状态 | 第47-51页 |
3.4.1 移除金属平板时会切场中等离子体状态 | 第47-49页 |
3.4.2 不同气压下移除金属平板时会切场中等离子体状态 | 第49页 |
3.4.3 存在金属平板时会切场中等离子体状态 | 第49-51页 |
3.4.4 不同气压下存在金属平板时会切场中等离子体状态 | 第51页 |
3.5 本章小结 | 第51-53页 |
4 等离子体鞘层的诊断分析 | 第53-69页 |
4.1 前言 | 第53页 |
4.2 一些特征参量的估计 | 第53-55页 |
4.2.1 Debye长度 | 第53-54页 |
4.2.2 回旋半径 | 第54页 |
4.2.3 离子的碰撞平均自由程 | 第54-55页 |
4.3 磁场对平板悬浮电位的影响 | 第55-56页 |
4.4 平行于磁场方向的鞘层结构 | 第56-61页 |
4.4.1 悬浮鞘 | 第56-57页 |
4.4.2 离子鞘 | 第57-59页 |
4.4.3 磁场对鞘层厚度的影响 | 第59-61页 |
4.5 垂直于磁场方向的鞘层结构 | 第61-63页 |
4.5.1 金属平板悬浮放置 | 第61页 |
4.5.2 离子鞘 | 第61-62页 |
4.5.3 磁场对鞘层厚度的影响 | 第62-63页 |
4.6 会切位形磁场中的鞘层结构 | 第63-67页 |
4.6.1 不同平板偏压下会切场中的鞘层 | 第63-65页 |
4.6.2 不同气压下会切场中的鞘层 | 第65-67页 |
4.7 本章小结 | 第67-69页 |
5 总结与展望 | 第69-71页 |
5.1 实验主要结果与分析 | 第69-70页 |
5.2 存在的问题和展望 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-73页 |
致谢 | 第73-75页 |
攻读学位期间发表的论文列表 | 第75页 |