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石墨烯与半导体界面电子转移的研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 导论第8-16页
    1.1 前言第8-10页
        1.1.1 研究背景第8-9页
        1.1.2 研究的目的第9页
        1.1.3 研究的意义第9-10页
    1.2 国内外研究现状及发展趋势第10-13页
        1.2.1 国外对石墨烯复合纳米材料的研究进展第10-11页
        1.2.2 国内对石墨烯复合纳米材料的研究进展第11-12页
        1.2.3 石墨烯复合材料的发展趋势第12-13页
    1.3 论文的内容结构及方法第13-16页
        1.3.1 本文的研究内容第13-14页
        1.3.2 本文的研究方法第14页
        1.3.3 本文的结构框架第14-16页
第2章 相关的理论基础及方法第16-32页
    2.1 密度泛函理论第16-23页
        2.1.1 Born-Oppenheimer近似及Hartree-Fock近似第16-18页
        2.1.2 Thomas-Fermi模型及Hohenberg-Kohn理论第18-21页
        2.1.3 Kohn-Sham方程及LDA第21-23页
    2.2 全电子及赝势方法第23-28页
        2.2.1 平面波展开法第23-24页
        2.2.2 赝势方法第24-26页
        2.2.3 投影缀加波法第26-28页
    2.3 本研究所采用的主要软件第28-31页
        2.3.1 Materials Studio第28-29页
        2.3.2 VASP第29-30页
        2.3.3 VESTA及Origin第30-31页
    2.4 本章小结第31-32页
第3章 不同掺杂浓度下Cu_2O(100)结构的光催化性能研究第32-43页
    3.1 半导体光催化剂第32-35页
        3.1.1 半导体光催化原理第32-33页
        3.1.2 改良半导体光催化剂的办法第33-34页
        3.1.3 半导体光催化剂的应用第34-35页
    3.2 Pd掺杂对Cu_2O(100)面光催化效率的影响第35-40页
        3.2.1 Pd掺杂对Cu_2O(100)面的稳定结构第35-37页
        3.2.2 Pd掺杂对Cu_2O(100)面的电子结构第37-39页
        3.2.3 Pd掺杂对Cu_2O(100)面的光催化效率第39-40页
    3.3 Pd掺杂对Cu_2O(100)面的光吸收特性第40-42页
        3.3.1 吸收光谱的计算方法第40页
        3.3.2 掺杂浓度对光吸收性质的影响第40-41页
        3.3.3 Pd掺杂的Cu_2O(100)面存在的问题及解决办法第41-42页
    3.4 本章小结第42-43页
第4章 Pd掺杂的Graphene@Cu_2O(100)复合结构光催化性质的研究第43-55页
    4.1 本研究涉及的石墨烯第43-46页
        4.1.1 石墨烯的性质在复合结构之中的作用第43-44页
        4.1.2 石墨烯材料的制备方法第44-45页
        4.1.3 石墨烯材料的应用前景第45-46页
    4.2 Pd掺杂的Graphene@Cu_2O(100)复合结构的光催化稳定性第46-51页
        4.2.1 复合结构的稳定结构分析第46-47页
        4.2.2 复合结构的电子结构分析第47-50页
        4.2.3 复合结构的光催化稳定性分析第50-51页
    4.3 Pd掺杂的Graphene@Cu_2O(100)复合结构的光吸收特性第51-53页
        4.3.1 复合结构吸收光谱的计算第51-52页
        4.3.2 掺杂浓度对复合结构光吸收性质的影响第52页
        4.3.3 复合结构的光催化性能分析第52-53页
    4.4 本章小结第53-55页
第5章 总结和展望第55-60页
    5.1 研究内容与成果第55-57页
        5.1.1 研究内容总结第55-56页
        5.1.2 研究成果总结第56-57页
    5.2 本文的创新性和研究意义第57-58页
        5.2.1 本文的创新性第57页
        5.2.2 研究的意义第57-58页
    5.3 今后的研究和展望第58-60页
        5.3.1 今后的研究方向第58-59页
        5.3.2 研究展望第59-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-64页
附录第64-65页

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