| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-12页 |
| 1.2 现代抛光技术的研究现状和关键问题 | 第12-15页 |
| 1.2.1 现代抛光技术的国内外研究现状 | 第12-15页 |
| 1.2.2 现代抛光技术亟待解决的关键性问题 | 第15页 |
| 1.3 本文研究内容 | 第15-18页 |
| 第2章 粘弹性材料抛光工具 | 第18-34页 |
| 2.1 粘弹性非牛顿流体 | 第18-19页 |
| 2.2 粘弹性材料抛光工具的制作 | 第19-22页 |
| 2.2.1 粘弹性材料抛光工具的特点 | 第19-20页 |
| 2.2.2 制作粘弹性材料抛光工具 | 第20-21页 |
| 2.2.3 粘弹性材料抛光工具的性能测试 | 第21-22页 |
| 2.3 粘弹性材料抛光工具的材料去除函数 | 第22-27页 |
| 2.3.1 普林斯顿(Preston)经验方程 | 第22-23页 |
| 2.3.2 粘弹性材料抛光工具接触区域压强分布建模 | 第23-24页 |
| 2.3.3 粘弹性材料抛光工具接触区域速度分布建模 | 第24-26页 |
| 2.3.4 粘弹性材料抛光工具的材料去除函数模型 | 第26-27页 |
| 2.4 边缘去除函数模型 | 第27-30页 |
| 2.5 去除函数模型的实验验证 | 第30页 |
| 2.6 粘弹性材料的动态模量 | 第30-32页 |
| 2.7 本章小结 | 第32-34页 |
| 第3章 伪随机化等间距轨迹 | 第34-50页 |
| 3.1 传统抛光轨迹 | 第34-36页 |
| 3.2 等间距轨迹的生成 | 第36-44页 |
| 3.2.1 等间距扫描轨迹的生成 | 第36-38页 |
| 3.2.2 曲线间距的确定 | 第38-41页 |
| 3.2.3 等间距螺旋轨迹的生成方法 | 第41-42页 |
| 3.2.4 算例证明 | 第42-44页 |
| 3.3 等间距轨迹的伪随机原理 | 第44-49页 |
| 3.3.1 扫描轨迹的伪随机化 | 第44-47页 |
| 3.3.2 等间距螺旋轨迹的伪随机化 | 第47-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 实验与结果分析 | 第50-70页 |
| 4.1 实验条件 | 第50-53页 |
| 4.1.1 加工和测量平台 | 第50-51页 |
| 4.1.2 工件材料的选取 | 第51-52页 |
| 4.1.3 抛光垫的选取 | 第52-53页 |
| 4.1.4 抛光剂的选取 | 第53页 |
| 4.2 正交实验设计及结果分析 | 第53-58页 |
| 4.2.1 正交实验的设计 | 第53-54页 |
| 4.2.2 实验结果及分析 | 第54-58页 |
| 4.3 抛光参数对工件表面质量的影响分析 | 第58-64页 |
| 4.3.1 抛光工具转速和抛光剂颗粒度对工件表面质量的影响 | 第58-61页 |
| 4.3.2 抛光工具转速和抛光时间对工件表面质量的影响 | 第61-64页 |
| 4.4 抛光轨迹的对比实验设计及结果分析 | 第64-69页 |
| 4.4.1 平面抛光效果对比及分析 | 第65-67页 |
| 4.4.2 曲面抛光效果对比及分析 | 第67-69页 |
| 4.5 本章小结 | 第69-70页 |
| 第5章 全文总结与展望 | 第70-72页 |
| 5.1 本文结论 | 第70-71页 |
| 5.2 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
