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新型温敏性酞菁聚合物的制备及光催化性能研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 绪论第8-23页
    1.1 引言第8-9页
    1.2 光催化氧化第9-12页
        1.2.1 光催化氧化的研究现状第9-12页
        1.2.2 光催化氧化机理第12页
    1.3 酞菁第12-20页
        1.3.1 酞菁的结构和性质第12-13页
        1.3.2 金属酞菁的制备方法第13-14页
        1.3.3 聚合酞菁的制备方法第14-17页
        1.3.4 酞菁类化合物的应用第17-18页
        1.3.5 金属酞菁催化剂的研究现状第18-20页
    1.4 可逆加成-断裂链转移聚合(RAFT)第20-22页
        1.4.1 RAFT反应机理第21页
        1.4.2 RAFT在制备不同拓扑结构的高分子中的应用第21-22页
    1.5 本文主要研究内容第22-23页
第二章 末端三硫代酯基化聚-(N-异丙基丙烯酰胺)的合成及表征第23-30页
    2.1 引言第23页
    2.2 实验试剂、实验设备第23-24页
        2.2.1 实验试剂第23页
        2.2.2 试剂的纯化处理第23-24页
        2.2.3 主要实验仪器第24页
    2.3 测试表征方法第24-25页
    2.4 实验方法及制备过程第25-26页
        2.4.1 S-1-十二烷基-S'-(α,α"-二甲基-α"-乙酸)三硫代碳酸酯(DDAT)的制备第25页
        2.4.2 末端三硫代酯基化聚-(N-异丙基丙烯酰胺)的制备第25-26页
    2.5 结果与讨论第26-29页
    2.6 本章小结第29-30页
第三章 酞菁嵌段共聚物的制备第30-43页
    3.1 引言第30页
    3.2 实验试剂、实验设备第30-32页
        3.2.1 实验试剂第30-31页
        3.2.2 试剂的纯化处理第31-32页
        3.2.3 主要实验仪器第32页
    3.3 测试表征方法第32-33页
    3.4 实验方法及制备过程第33-36页
        3.4.1 4-羟基邻苯二甲腈的制备第33页
        3.4.2 4-(6-羟基己氧基)邻苯二腈(HHPN)的制备第33-34页
        3.4.3 2-甲基-丙烯酸 6-(3,4-二氰基-苯氧基)-己基酯(MADCE)的制备第34页
        3.4.4 二嵌段共聚物PNIPAM-b-PMADCE的制备第34页
        3.4.5 酞菁嵌段共聚物PNIPAM-b-PMADCE-ZnPc的制备第34-36页
    3.5 结果与讨论第36-42页
    3.6 本章小结第42-43页
第四章 酞菁嵌段共聚物的光催化性能第43-53页
    4.1 引言第43页
    4.2 实验试剂、实验设备第43-44页
    4.3 光催化降解测试方法第44-45页
    4.4 催化机理第45-46页
    4.5 光催化降解RhB第46-48页
    4.6 光催化降解MB第48-50页
    4.7 温度对光降解效率的影响第50-51页
    4.8 pH值对光降解效率的影响第51-52页
    4.9 PNIPAM-b-PMADCE-ZnPc的重复利用性第52页
    4.10 本章小结第52-53页
第五章 结论第53-54页
致谢第54-55页
参考文献第55-58页

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