| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 NO_x污染概况 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体光催化原理 | 第12-13页 |
| 1.2.1 光催化原理 | 第12页 |
| 1.2.2 光催化材料的研究进展 | 第12-13页 |
| 1.3 g-C_3N_4基本性质及应用 | 第13-15页 |
| 1.3.1 g-C_3N_4的发现 | 第13-14页 |
| 1.3.2 g-C_3N_4的结构与性质 | 第14页 |
| 1.3.3 g-C_3N_4的常见制备方法 | 第14-15页 |
| 1.3.4 g-C_3N_4在光催化中的应用 | 第15页 |
| 1.4 g-C_3N_4的改性方法研究进展 | 第15-17页 |
| 1.4.1 形貌调控 | 第15-16页 |
| 1.4.2 元素掺杂 | 第16页 |
| 1.4.3 贵金属沉积 | 第16页 |
| 1.4.4 异质结构建 | 第16-17页 |
| 1.5 本文解决问题以及研究内容 | 第17-19页 |
| 1.5.1 选题依据 | 第17页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 实验方法 | 第19-23页 |
| 2.1 实验材料 | 第19-20页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第19页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第19-20页 |
| 2.2 催化剂的表征 | 第20-21页 |
| 2.3 催化剂的活性评价 | 第21-23页 |
| 第三章 介孔g-C_3N_4的制备及可见光催化净化NO性能研究 | 第23-34页 |
| 3.1 前言 | 第23页 |
| 3.2 催化剂制备 | 第23-24页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第24-32页 |
| 3.3.1 相结构分析（XRD） | 第24-25页 |
| 3.3.2 形貌结构分析（SEM、TEM） | 第25-27页 |
| 3.3.3 比表面积和介孔分析(BET) | 第27-28页 |
| 3.3.4 化学价态分析(XPS) | 第28-30页 |
| 3.3.5 光学性质分析（UV-vis、PL） | 第30-32页 |
| 3.3.6 可见光活性分析 | 第32页 |
| 3.4 小结 | 第32-34页 |
| 第四章 同时高产量和活性的g-C_3N_4的制备及可见光净化NO性能研究 | 第34-48页 |
| 4.1 前言 | 第34页 |
| 4.2 催化剂制备 | 第34-35页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第35-47页 |
| 4.3.1 相结构分析（XRD） | 第35-36页 |
| 4.3.2 形貌结构分析（SEM、TEM） | 第36-38页 |
| 4.3.3 比表面积和介孔分析(BET) | 第38-39页 |
| 4.3.4 热重分析 | 第39-40页 |
| 4.3.5 化学价态分析(XPS) | 第40-42页 |
| 4.3.6 光学性质分析（UV-vis、PL） | 第42-45页 |
| 4.3.7 可见光活性和产量分析 | 第45-47页 |
| 4.4 小结 | 第47-48页 |
| 第五章C掺杂g-C_3N_4的制备及可见光净化NO性能研究 | 第48-59页 |
| 5.1 前言 | 第48页 |
| 5.2 催化剂制备 | 第48-49页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第49-57页 |
| 5.3.1 相结构分析（XRD） | 第49-50页 |
| 5.3.2 形貌结构分析（SEM、TEM） | 第50-52页 |
| 5.3.3 比表面积和介孔分析(BET) | 第52-53页 |
| 5.3.4 化学价态与元素组成分析 | 第53-54页 |
| 5.3.5 光学性质分析（UV-vis、PL） | 第54-56页 |
| 5.3.6 可见光活性分析 | 第56-57页 |
| 5.4 小结 | 第57-59页 |
| 第六章 结论与展望 | 第59-61页 |
| 6.1 结论 | 第59-60页 |
| 6.2 展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 在学期间发表论文及参加课题情况 | 第68页 |
