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离子液体中纳米晶铝的电沉积制备及其防腐蚀性能研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-25页
    1.1 金属材料的腐蚀与防护第11-12页
        1.1.1 金属的腐蚀第11页
        1.1.2 金属的主要防护方法第11-12页
    1.2 铝及铝合金概述第12-15页
        1.2.1 铝及铝合金的基本性质第12-13页
        1.2.2 铝及铝合金的应用第13-14页
        1.2.3 金属铝镀层的制备工艺及其特点第14-15页
    1.3 离子液体概述第15-21页
        1.3.1 离子液体的定义及其发展第15-16页
        1.3.2 离子液体的分类第16-18页
        1.3.3 离子液体的合成第18页
        1.3.4 离子液体的纯化第18-19页
        1.3.5 离子液体的应用第19-21页
    1.4 电镀添加剂概述第21-23页
        1.4.1 电镀添加剂的基本介绍第21-22页
        1.4.2 电镀添加剂的作用第22-23页
    1.5 本课题研究的意义和内容第23-25页
        1.5.1 课题的提出及意义第23页
        1.5.2 研究课题的主要内容第23-25页
第二章 实验材料及研究方法第25-30页
    2.1 实验试剂与仪器第25-26页
    2.2 离子液体的配制第26页
    2.3 电极镀前预处理第26-27页
    2.4 电沉积第27页
    2.5 添加剂对离子液体影响的电化学测试第27页
    2.6 样品的测试表征第27-30页
        2.6.1 扫描电镜及能谱分析第28页
        2.6.2 XRD分析第28页
        2.6.3 耐蚀性侧试第28-29页
        2.6.5 镀层的热处理第29-30页
第三章 2-氯烟酰氯对离子液体中电镀铝的影响第30-46页
    3.1 引言第30-31页
    3.2 2-氯烟酰氯对离子液体的电化学影响第31-34页
        3.2.1 循环伏安曲线分析第31-32页
        3.2.2 开路电位下离子液体的阻抗图第32页
        3.2.3 沉积电位下离子液体的阻抗图第32-34页
    3.3 镀层表征第34-38页
        3.3.1 镀层扫描电镜分析第34-35页
        3.3.2 镀层的截面图第35-36页
        3.3.3 2-氯烟酰氯过量后第36-37页
        3.3.4 XRD图谱分析第37页
        3.3.5 铝镀层能谱分析第37-38页
    3.4 镀层耐腐蚀性的测试第38-43页
        3.4.1 电化学阻抗测试第38-41页
        3.4.2 极化曲线测试第41-42页
        3.4.3 浸泡实验第42-43页
    3.5 脉冲电流电镀第43-45页
        3.5.1 无添加剂离子液体中脉冲电流电镀与直流电电镀第44页
        3.5.2 有添加剂离子液体中脉冲电流电镀和直流电电镀第44-45页
    3.6 本章小结第45-46页
第四章 烟酰氯盐酸盐和热处理对铝镀层的影响第46-56页
    4.1 烟酰氯盐酸盐对离子液体的电化学影响第46-48页
        4.1.1 循环伏安分析第46-47页
        4.1.2 沉积电位下阻抗图第47-48页
    4.2 镀层电镜分析第48-49页
    4.3 铝镀层能谱分析第49-50页
    4.4 XRD衍射仪分析第50-51页
    4.5 烟酰氯盐酸盐量过多时对镀层影响第51-52页
    4.6 镀层氧化处理对其耐蚀性的影响第52-55页
    4.7 本章小结第55-56页
第五章 结论与展望第56-58页
    5.1 结论第56-57页
    5.2 展望第57-58页
参考文献第58-65页
附录Ⅰ 硕士期间发表的论文第65-66页
附录Ⅱ 致谢第66页

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