| 中文摘要 | 第11-14页 |
| ABSTRACT | 第14-17页 |
| 符号说明 | 第18-20页 |
| 第一章 绪论 | 第20-33页 |
| 1.1 集成光学与光波导 | 第20-23页 |
| 1.1.1 集成光学 | 第20页 |
| 1.1.2 光波导的特点 | 第20-21页 |
| 1.1.3 光波导的分类与应用 | 第21页 |
| 1.1.4 制作光波导的方法 | 第21-23页 |
| 1.2 光学材料异质结构的形成方法 | 第23-25页 |
| 1.3 论文内容概况与安排 | 第25-29页 |
| 参考文献 | 第29-33页 |
| 第二章 实验方法 | 第33-47页 |
| 2.1 离子注入技术 | 第34-35页 |
| 2.2 卢瑟福背散射/沟道分析技术 | 第35-40页 |
| 2.2.1 卢瑟福背散射的分析原理 | 第35-36页 |
| 2.2.2 卢瑟福背散射中的基本物理概念 | 第36-40页 |
| 2.2.2.1 运动学因子K | 第36-37页 |
| 2.2.2.2 能量损失dE/dx和阻止截面ε | 第37-39页 |
| 2.2.2.3 散射截面σ | 第39-40页 |
| 2.3 棱镜耦合方法 | 第40-42页 |
| 2.4 端面耦合方法 | 第42-43页 |
| 2.5 透射电子显微镜技术 | 第43-44页 |
| 2.5.1 透射电子显微镜的基本原理 | 第43页 |
| 2.5.2 透射电子显微镜的制样方法 | 第43-44页 |
| 2.6 小角度X射线散射技术 | 第44-45页 |
| 2.7 原子力显微镜技术 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第三章 低能氦离子注入掺钕钒酸钇产生的辐射效应 | 第47-58页 |
| 3.1 离子注入产生的晶格损伤分析 | 第48-52页 |
| 3.1.1 实验条件 | 第48-49页 |
| 3.1.2 实验结果与讨论 | 第49-52页 |
| 3.1.2.1 注入样品的晶格损伤分析 | 第49-51页 |
| 3.1.2.2 退火样品的晶格损伤分析 | 第51-52页 |
| 3.2 离子注入Nd：YVO_4的荧光谱 | 第52-53页 |
| 3.3 注入样品的表面形貌特性 | 第53-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第四章 重离子注入掺钕钒酸钇后的辐射效应 | 第58-82页 |
| 4.1 硅离子注入掺钕钒酸钇中晶格损伤与波导形成的关系 | 第59-68页 |
| 4.1.1 实验方法 | 第59-60页 |
| 4.1.2 实验结果与讨论 | 第60-68页 |
| 4.1.2.1 注入样品的品格损伤分析 | 第60-62页 |
| 4.1.2.2 退火样品的品格损伤分析 | 第62-64页 |
| 4.1.2.3 Nd：YVO_4注入样品的光波导特性 | 第64-66页 |
| 4.1.2.4 离子注入Nd：YVO_4晶体的电子能量损失阈值 | 第66-68页 |
| 4.2 MeV能量重离子注入掺钕钒酸钇晶体的辐射损伤分析 | 第68-77页 |
| 4.2.1 实验方法 | 第68-69页 |
| 4.2.2 实验结果和讨论 | 第69-77页 |
| 4.2.2.1 MeV能量Si离子注入到样品中产生的晶格损伤 | 第69-72页 |
| 4.2.2.2 离子注入Nd：YVO_4晶体的损伤动力学 | 第72-75页 |
| 4.2.2.3 电子能量损失阈值计算 | 第75-77页 |
| 4.3 本章小结 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-82页 |
| 第五章 离子注入掺钕钒酸钇光波导折射率改变模型研究 | 第82-94页 |
| 5.1 离子注入引起的折射率改变理论模型的建立 | 第83-85页 |
| 5.2 实验结果与理论模拟的比较 | 第85-90页 |
| 5.2.1 Si离子注入Nd：YVO_4中形成的光波导折射率改变 | 第85-89页 |
| 5.2.2. He离子注入Nd：YVO_4中形成的光波导折射率改变 | 第89-90页 |
| 5.3 本章小结 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-94页 |
| 第六章 低能氦离子注入磷酸钛氧钾的辐射效应研究 | 第94-106页 |
| 6.1 实验方法介绍 | 第95-96页 |
| 6.2 200keV能量的氦离子注入KTP晶体退火前后晶格损伤研究 | 第96-99页 |
| 6.2.1 退火前KTP样品的晶格损伤分析 | 第96-98页 |
| 6.2.2 退火后KTP样品的晶格损伤分析 | 第98-99页 |
| 6.3 200keV能量的氦离子注入KTP晶体退火后晶格结构研究 | 第99-102页 |
| 6.4 200keV能量的氦离子注入KTP晶体形成的气泡分析 | 第102-104页 |
| 6.5 本章小结 | 第104-105页 |
| 参考文献 | 第105-106页 |
| 第七章 快重离子注入KTP的离子轨迹研究 | 第106-120页 |
| 7.1 实验方法介绍 | 第107-109页 |
| 7.2 实验结果与讨论 | 第109-113页 |
| 7.2.1 小角度X射线散射的分析结果 | 第109-111页 |
| 7.2.2 透射电子显微镜的分析结果 | 第111-112页 |
| 7.2.3 原子力显微镜的分析结果 | 第112-113页 |
| 7.3 Thermal-spike理论模型的建立 | 第113-115页 |
| 7.4 本章小结 | 第115-117页 |
| 参考文献 | 第117-120页 |
| 第八章 低能H离子注入KTP的薄膜剥离现象研究 | 第120-129页 |
| 8.1 实验方法介绍 | 第121-122页 |
| 8.2 实验结果与讨论 | 第122-127页 |
| 8.2.1 H离子注入z-cut的KTP样品的表面剥离现象 | 第122-126页 |
| 8.2.2 H离子注入x-cut的KTP样品的表面剥离现象 | 第126-127页 |
| 8.3 本章小结 | 第127-128页 |
| 参考文献 | 第128-129页 |
| 第九章 总结 | 第129-133页 |
| 9.1 主要内容与成果 | 第129-132页 |
| 1 低能氦离子注入掺钕钒酸钇产生的辐射效应 | 第129-130页 |
| 2 重离子注入掺钕钒酸钇后的辐射效应 | 第130页 |
| 3 离子注入掺钕钒酸钇光波导折射率改变模型研究 | 第130页 |
| 4 低能氦离子注入磷酸钛氧钾的辐射效应研究 | 第130-131页 |
| 5 快重离子注入KTP的离子轨迹研究 | 第131页 |
| 6 低能H离子注入KTP的薄膜剥离现象研究 | 第131-132页 |
| 9.2 主要创新点 | 第132页 |
| 1 首次利用离子注入方法剥离KTP晶体的薄膜 | 第132页 |
| 2 首次建立了离子注入Nd：YVO_4晶体的光波导折射率改变的理论模型 | 第132页 |
| 3 首次对离子注入Nd：YVO_4晶体产生的晶格损伤进行深入分析 | 第132页 |
| 9.3 问题与建议 | 第132-133页 |
| 致谢 | 第133-135页 |
| 博士期间参与的项目、发表的论文和获得的奖励 | 第135-138页 |
| 附英文论文两篇 | 第138-151页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第151页 |
