摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-14页 |
1.1 SOFC概述与研究现状 | 第10-11页 |
1.2 关键问题与研究内容 | 第11-14页 |
第二章 实验方案及技术路线 | 第14-16页 |
2.1 实验材料及设备 | 第14-15页 |
2.2 (STO/YSZ /GDC)_N电解质的制备及表征 | 第15-16页 |
第三章 衬底温度对STO/YSZ/GDC电解质特性的影响 | 第16-20页 |
3.1 STO/YSZ/GDC电解质薄膜的制备 | 第16-17页 |
3.2 结果与讨论 | 第17-19页 |
3.2.1 STO/ YSZ /GDC电解质薄膜的表面形貌 | 第17-18页 |
3.2.2 STO/ YSZ /GDC电解质薄膜的截面形貌 | 第18-19页 |
3.2.3 STO/ YSZ /GDC电解质薄膜的成份分析 | 第19页 |
3.3 本章总结 | 第19-20页 |
第四章 退火温度对超晶格(STO/YSZ/GDC)_N电解质的影响 | 第20-25页 |
4.1 实验 | 第20-21页 |
4.2 结果分析 | 第21-24页 |
4.2.1 退火温度对超晶格(STO/YSZ/GDC)_4电解质微观形貌的影响 | 第21-22页 |
4.2.2 超晶格(STO/YSZ/GDC)_4电解质的截面TEM分析 | 第22-24页 |
4.2.3 超晶格(STO/YSZ/GDC)_4电解质的成份分析 | 第24页 |
4.3 本章总结 | 第24-25页 |
第五章 周期数对厚度比为1:1:1的超晶格(STO/YSZ/GDC)_N样品电学特性的影响 | 第25-30页 |
5.1 超晶格(STO/YSZ/GDC)_N电解质的晶体结构 | 第26-27页 |
5.2 厚度比为1:1:1的(STO/YSZ/GDC)_N电解质的电学性质 | 第27-29页 |
5.2.1 (STO/YSZ/GDC)_N电解质的交流阻抗Nyquist | 第27-28页 |
5.2.2 (STO/YSZ/GDC)_N电解质的Arrenius曲线 | 第28-29页 |
5.3 本章总结 | 第29-30页 |
第六章 厚度比为1:1:2的超晶格(STO/YSZ/GDC)_4电解质 | 第30-36页 |
6.1 超晶格(STO/YSZ/GDC)_4电解质的物相结构和表面形貌 | 第30-31页 |
6.1.1 (STO/YSZ/GDC)_4电解质的物相结构 | 第30-31页 |
6.1.2 (STO/YSZ/GDC)_4电解质的表面SEM | 第31页 |
6.2 超晶格(STO/YSZ/GDC)_4电解质的组份 | 第31-33页 |
6.2.1 (STO/YSZ/GDC)_4电解质的X射线能量散射谱 | 第31-32页 |
6.2.2 (STO/YSZ/GDC)_4电解质的截面EDS | 第32-33页 |
6.3 超晶格(STO/YSZ/GDC)_4电解质的显微结构 | 第33-34页 |
6.3.1 (STO/YSZ/GDC_)4电解质的高分辨透射HRTEM图 | 第33-34页 |
6.3.2 (STO/YSZ/GDC)_4电解质的电子衍射情况分析 | 第34页 |
6.4 不同厚度比的超晶格(STO/YSZ/GDC)_4电解质的电学特性 | 第34-35页 |
6.5 本章总结 | 第35-36页 |
第七章 周期数对厚度比为1:1:2的超晶格(STO/YSZ/GDC)_N样品电学性能的影响 | 第36-41页 |
7.1 实验 | 第36-37页 |
7.2 结果与讨论 | 第37-40页 |
7.2.1 超晶格(STO/YSZ/GDC)_N电解质的交流阻抗 | 第37页 |
7.2.2 厚度比为1:1:2的(STO/YSZ/GDC)_N电解质的Arrhenius曲线 | 第37-38页 |
7.2.3 不同电解质薄膜的Arrhenius曲线 | 第38-40页 |
7.2.4 不同气氛对超晶格(STO/YSZ/GDC)_N电解质的影响 | 第40页 |
7.3 本章总结 | 第40-41页 |
总结与展望 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-45页 |
致谢 | 第45-46页 |
硕士期间发表论文 | 第46页 |