| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 1 绪论 | 第7-14页 |
| 1.1 研究背景 | 第7-8页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第8-12页 |
| 1.2.1 法布里—珀罗干涉腔的研究进展 | 第8-10页 |
| 1.2.2 干涉腔中光学薄膜的研究进展 | 第10-12页 |
| 1.3 本论文的主要研究内容 | 第12-14页 |
| 2 法布里—珀罗干涉腔的性能参数研究 | 第14-20页 |
| 2.1 法布里—珀罗干涉腔的基本原理 | 第14-16页 |
| 2.2 法布里—珀罗干涉腔性能参数及影响因素 | 第16-19页 |
| 2.2.1 条纹精细度 | 第16-17页 |
| 2.2.2 自由光谱范围 | 第17页 |
| 2.2.3 光谱分辨本领 | 第17-18页 |
| 2.2.4 峰值透过率 | 第18-19页 |
| 2.3 本章小结 | 第19-20页 |
| 3 法布里—珀罗干涉腔反射镜面的薄膜应力分析 | 第20-32页 |
| 3.1 薄膜应力的概念及分类 | 第20-22页 |
| 3.1.1 按形成机理划分 | 第20-22页 |
| 3.1.2 按应力产生的形变划分 | 第22页 |
| 3.2 应力的影响因素 | 第22-24页 |
| 3.3 应力的测量方法 | 第24-31页 |
| 3.3.1 X射线衍射法 | 第24-27页 |
| 3.3.2 拉曼光谱法 | 第27页 |
| 3.3.3 基于基底曲率的方法 | 第27-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 4 单层介质膜的镀制及应力测量 | 第32-51页 |
| 4.1 实验仪器 | 第32-35页 |
| 4.1.1 真空镀膜机 | 第32-33页 |
| 4.1.2 分光光度计 | 第33-34页 |
| 4.1.3 数字波面干涉仪 | 第34-35页 |
| 4.2 实验测试及结果分析 | 第35-49页 |
| 4.2.1 薄膜厚度对薄膜应力的影响 | 第36-41页 |
| 4.2.2 基板材料对薄膜应力的影响 | 第41-44页 |
| 4.2.3 两种薄膜材料TiO_2和SiO_2的应力分析 | 第44-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-51页 |
| 5 法布里—珀罗干涉腔中宽波段高反射介质膜的研制 | 第51-63页 |
| 5.1 宽波段反射膜系的基本设计原理 | 第51-56页 |
| 5.2 宽波段反射膜的设计及应力处理方案 | 第56-62页 |
| 5.3 本章小结 | 第62-63页 |
| 6 结论与展望 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 附录 | 第70页 |