摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第11-16页 |
1.1 LB膜技术的简介 | 第11-12页 |
1.1.1 LB膜技术的概念 | 第11页 |
1.1.2 LB膜的制备和表征 | 第11-12页 |
1.2 LB膜的应用 | 第12-13页 |
1.3 聚合物LB膜的研究 | 第13-15页 |
1.3.1 共聚物纯组分体系 | 第13-14页 |
1.3.2 聚合物二元共混体系 | 第14-15页 |
1.4 本文研究目的、意义及内容 | 第15-16页 |
第2章 实验部分 | 第16-21页 |
2.1 实验材料 | 第16页 |
2.2 实验设备 | 第16-18页 |
2.3 实验方法 | 第18-20页 |
2.3.1 硅片的亲水处理 | 第18页 |
2.3.2 铺展溶液的制备 | 第18页 |
2.3.3 Langmuir单层?-A等温实验 | 第18-19页 |
2.3.4 Langmuir单层滞后实验 | 第19页 |
2.3.5 LB膜的制备和表征 | 第19-20页 |
2.4 本章小结 | 第20-21页 |
第3章 SMMA34K/SMMA51K共混体系Langmuir单层及其LB膜的研究 | 第21-36页 |
3.1 组成对预共混体系Langmuir单层及其LB膜的影响 | 第21-29页 |
3.1.1 SMMA34K/SMMA51K预共混体系?-A等温线 | 第21-22页 |
3.1.2 SMMA34K/SMMA51K预共混体系滞后曲线 | 第22-25页 |
3.1.3 预共混体系LB膜形态结构 | 第25-29页 |
3.2 滴加方式对共混体系在空气/水界面上聚集行为的影响 | 第29-35页 |
3.2.1 ?-A等温线 | 第29-31页 |
3.2.2 不同滴加方式共混体系的LB膜形貌 | 第31-35页 |
3.3 本章小结 | 第35-36页 |
第4章 选择性溶剂对SMMA34K/SMMA51K预共混体系Langmuir单层及LB膜的影响 | 第36-45页 |
4.1 SMMA34K/SMMA51K预共混体系?-A等温线 | 第36-39页 |
4.2 SMMA34K/SMMA51K预共混体系滞后曲线 | 第39-41页 |
4.3 SMMA34K/SMMA51K预共混体系LB膜形貌 | 第41-44页 |
4.4 本章小结 | 第44-45页 |
结论 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-50页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第50-51页 |
致谢 | 第51页 |