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Ⅳ-Ⅵ族半导体电子结构和晶格动力学性质研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第12-31页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 SnTe拓扑晶体绝缘体第13-18页
        1.2.1 拓扑绝缘体第13-16页
        1.2.2 拓扑晶体绝缘体第16-18页
    1.3 PbTe和SnSe的热电性质第18-24页
        1.3.1 PbTe的热电性质及优化第19-22页
        1.3.2 SnSe的热电性质及优化第22-24页
    1.4 Ⅳ-Ⅵ族半导体的晶格动力学性质第24-29页
        1.4.1 Ⅳ-Ⅵ族半导体的铁电及近铁电性质第24-28页
        1.4.2 PbTe的晶格动力学的非谐性第28-29页
    1.5 本论文的研究工作第29-31页
第二章 计算方法介绍第31-43页
    2.1 多电子系统第31-33页
    2.2 密度泛函理论第33-40页
        2.2.1 Hohenberg和Kohn:两个定理第33-34页
        2.2.2 Kohn-Sham方程第34-35页
        2.2.3 交换关联泛函第35-40页
    2.3 平面波方法第40-41页
    2.4 赝势方法第41-43页
第三章 Ⅳ族碲化物拓扑晶体绝缘体电子反常的成因第43-55页
    3.1 引言第43-44页
    3.2 计算细节第44-45页
    3.3 结果与讨论第45-53页
        3.3.1 Ⅳ族碲化物的能带结构第45-47页
        3.3.2 Ⅳ族碲化物带隙的成因第47-49页
        3.3.3 Ⅳ族碲化物带隙的反常趋势第49-52页
        3.3.4 SnTe菱方结构和拓扑相变第52-53页
    3.4 结论第53-55页
第四章 角分辨光电子能谱测量PbTe (111)薄膜的电子能带结构第55-69页
    4.1 引言第55-57页
    4.2 实验及计算细节第57-58页
        4.2.1 分子束外延第57页
        4.2.2 ARPES测量第57-58页
        4.2.3 第一性原理计算第58页
    4.3 结果与讨论第58-68页
        4.3.1 晶体结构与布里渊区第58-60页
        4.3.2 kz测量第60-62页
        4.3.3 kⅡ测量第62-68页
    4.4 结论第68-69页
第五章 外延应变导致的PbTe晶格势非谐性增强第69-74页
    5.1 引言第69-70页
    5.2 计算细节第70页
    5.3 结果与讨论第70-73页
    5.4 结论第73-74页
第六章 总结与展望第74-77页
    6.1 论文工作总结第74-75页
    6.2 今后工作展望第75-77页
附录A 波函数投影到原子位置时的轨道特征第77-78页
参考文献第78-94页
攻读博士期间的研究成果第94-96页
致谢第96-97页

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