| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·砷的概述 | 第12-17页 |
| ·砷的性质及其资源 | 第12页 |
| ·砷的应用 | 第12-13页 |
| ·砷污染及其来源 | 第13-15页 |
| ·砷化合物的危害 | 第15-17页 |
| ·含砷物料处理现状 | 第17-22页 |
| ·化学沉淀法 | 第17-18页 |
| ·物化法 | 第18-19页 |
| ·生物法 | 第19-20页 |
| ·固化/稳定化技术 | 第20-21页 |
| ·合成砷酸盐固溶体 | 第21-22页 |
| ·研究的目的和意义 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 实验材料与方法 | 第24-30页 |
| ·实验药品和仪器 | 第24-25页 |
| ·实验药品 | 第24-25页 |
| ·实验仪器 | 第25页 |
| ·砷方钠石的制备 | 第25-27页 |
| ·实验原理 | 第25页 |
| ·砷方钠石的合成 | 第25-26页 |
| ·测试分析方法 | 第26-27页 |
| ·砷的毒性浸出实验 | 第27页 |
| ·短期毒性浸出实验 | 第27页 |
| ·长期毒性浸出实验 | 第27页 |
| ·测试分析方法 | 第27-30页 |
| 第三章 砷方钠石形成条件优化与表征 | 第30-46页 |
| ·高岭土/偏高岭土对砷方钠石形成的影响 | 第30-32页 |
| ·XRD分析 | 第30-31页 |
| ·SEM分析 | 第31-32页 |
| ·溶液初始pH对合成砷方钠石的影响 | 第32-35页 |
| ·XRD分析 | 第33页 |
| ·SEM分析 | 第33-35页 |
| ·TEA的使用对合成砷方钠石的影响 | 第35-37页 |
| ·XRD分析 | 第35-36页 |
| ·SEM分析 | 第36-37页 |
| ·反应温度对合成砷方钠石的影响 | 第37-41页 |
| ·100和120℃产物分析 | 第38-39页 |
| ·XRD分析 | 第39页 |
| ·SEM分析 | 第39-41页 |
| ·反应时间对合成砷方钠石的影响 | 第41-44页 |
| ·XRD分析 | 第42页 |
| ·SEM分析 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 不同砷含量砷方钠石的制备及其稳定性研究 | 第46-62页 |
| ·不同砷含量砷方钠石的合成 | 第47-52页 |
| ·XRD分析 | 第47-48页 |
| ·SEM分析 | 第48-50页 |
| ·FT-IR分析 | 第50-52页 |
| ·Al、Si和As分析 | 第52-54页 |
| ·砷毒性浸出特性 | 第54-60页 |
| ·短期毒性浸出 | 第55-57页 |
| ·长期毒性浸出 | 第57-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 Si、Al对砷方钠石形成的影响及其机理探讨 | 第62-80页 |
| ·高n(Si/Al)aq对合成砷方钠石的影响 | 第62-67页 |
| ·XRD分析 | 第63页 |
| ·SEM分析 | 第63-66页 |
| ·固砷效果分析 | 第66-67页 |
| ·低n(Si/Al)aq对合成砷方钠石的影响 | 第67-72页 |
| ·XRD分析 | 第68页 |
| ·SEM分析 | 第68-70页 |
| ·晶体中Al、Si和As分析 | 第70-71页 |
| ·固砷效果分析 | 第71-72页 |
| ·n(As/(Al+Si+As))aq=0.33合成产物对比分析 | 第72-75页 |
| ·XRD比较 | 第73页 |
| ·SEM比较 | 第73-74页 |
| ·晶体中Al、Si和As之间摩尔比的比较分析 | 第74-75页 |
| ·砷方钠石形成机理分析 | 第75-77页 |
| ·本章小结 | 第77-80页 |
| 第六章 结论与建议 | 第80-84页 |
| ·结论 | 第80-83页 |
| ·创新点 | 第83页 |
| ·建议 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-94页 |
| 附录 | 第94页 |