基底对物理法制备石墨烯形貌的影响研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-19页 |
| ·课题研究目的及意义 | 第8-9页 |
| ·石墨烯的概述 | 第9-13页 |
| ·石墨和石墨烯的结构 | 第10-11页 |
| ·石墨烯的电子结构 | 第11-12页 |
| ·石墨和石墨烯中的超晶格 | 第12-13页 |
| ·石墨烯的性质 | 第13-14页 |
| ·机械特性 | 第13页 |
| ·电学性质 | 第13-14页 |
| ·光学性质 | 第14页 |
| ·石墨烯的制备 | 第14-16页 |
| ·物理剥离法 | 第14-15页 |
| ·化学插层法 | 第15页 |
| ·外延生长法 | 第15-16页 |
| ·化学氧化法 | 第16页 |
| ·石墨烯的表征 | 第16-18页 |
| ·石墨烯的应用 | 第18页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第19-26页 |
| ·实验材料及仪器设备 | 第19-20页 |
| ·实验材料 | 第19-20页 |
| ·实验仪器 | 第20页 |
| ·实验方法 | 第20-23页 |
| ·基底的预处理 | 第21页 |
| ·物理法制备石墨烯的方法 | 第21-23页 |
| ·石墨烯的表征 | 第23-24页 |
| ·特殊探针的制备以及力曲线的测量 | 第24-26页 |
| ·二氧化硅微球探针的制备 | 第24-25页 |
| ·石墨探针的制备 | 第25页 |
| ·力曲线的测量 | 第25-26页 |
| 第3章 不同制备方法对石墨样品形貌的影响 | 第26-41页 |
| ·基底的清洗 | 第26-28页 |
| ·制备方法及表征 | 第28-40页 |
| ·胶带解离法 | 第31-33页 |
| ·机械摩擦法 | 第33-35页 |
| ·超声分散法 | 第35-37页 |
| ·摩擦超声法 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 不同基底对物理法制备石墨烯的影响 | 第41-55页 |
| ·基底的预处理 | 第41-44页 |
| ·不同基底上制备石墨烯 | 第44-52页 |
| ·表面有 300 nm 氧化膜单晶硅基底 | 第44-46页 |
| ·单晶氧化铝基底 | 第46-48页 |
| ·玻璃基底 | 第48-50页 |
| ·云母基底 | 第50-52页 |
| ·石墨和基底之间作用力对制备石墨烯的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
