中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第一章 文献综述 | 第10-23页 |
·化学修饰电极 | 第10-13页 |
·化学修饰电极简介 | 第10页 |
·化学修饰电极的制备方法 | 第10-11页 |
·吸附法 | 第10页 |
·共价键合法 | 第10页 |
·聚合物薄膜法 | 第10-11页 |
·组合法 | 第11页 |
·其他方法 | 第11页 |
·化学修饰电极的表征方法 | 第11-12页 |
·电化学方法 | 第11页 |
·光谱法 | 第11页 |
·显微学 | 第11页 |
·其他方法 | 第11-12页 |
·化学修饰电极的应用 | 第12-13页 |
·化学修饰电极在分析化学中的应用 | 第12页 |
·化学修饰电极在环境污染中的应用 | 第12页 |
·化学修饰电极在食品安全中的应用 | 第12页 |
·化学修饰电极在药物分析检测中的应用 | 第12-13页 |
·化学修饰电极在金属离子分离分析中的应用 | 第13页 |
·化学修饰碳糊电极(CMCPE) | 第13-15页 |
·化学修饰碳糊电极(CMCPE)简介 | 第13-14页 |
·碳糊电极(CPE) | 第13页 |
·化学修饰碳糊电极 | 第13-14页 |
·化学修饰碳糊电极的制备 | 第14页 |
·直接混合法 | 第14页 |
·吸附法 | 第14页 |
·粘结剂修饰法 | 第14页 |
·共价键合法 | 第14页 |
·化学修饰碳糊电极的表征 | 第14-15页 |
·化学修饰碳糊电极的应用 | 第15页 |
·电化学电容器 | 第15-17页 |
·电化学电容器的定义 | 第15页 |
·电化学电容器的分类 | 第15-16页 |
·双电层电化学电容器 | 第16页 |
·赝电容器 | 第16页 |
·混合电容器 | 第16页 |
·电化学电容器的特性 | 第16页 |
·电化学电容器的应用 | 第16-17页 |
·-羟基喹啉-铝络合物 | 第17-18页 |
·-羟基喹啉 | 第17页 |
·-羟基喹啉-铝 | 第17-18页 |
·酚类化合物 | 第18-19页 |
·邻苯三酚 | 第18-19页 |
·扩散系数 | 第19页 |
·QSAR方法 | 第19-21页 |
·QSAR方法的定义 | 第19页 |
·QSAR的建模方法 | 第19-20页 |
·多元线性回归(MLR) | 第19-20页 |
·主成分分析(PCA) | 第20页 |
·偏最小二乘法(PLS) | 第20页 |
·其他方法 | 第20页 |
·QSAR方法的研究意义 | 第20-21页 |
·本文的研究意义和主要内容 | 第21-23页 |
第二章 8-羟基喹啉-铝修饰碳糊电极的电催化作用 | 第23-31页 |
·前言 | 第23页 |
·实验部分 | 第23-25页 |
·实验仪器 | 第23-24页 |
·实验试剂 | 第24页 |
·石墨基础电极的制备 | 第24页 |
·-羟基喹啉-铝修饰碳糊电极的制备 | 第24-25页 |
·结果与讨论 | 第25-30页 |
·-羟基喹啉-铝修饰碳糊电极的电化学催化行为 | 第25-26页 |
·-羟基喹啉-铝络合比对电化学催化的影响 | 第26-27页 |
·修饰剂含量的影响 | 第27-28页 |
·扫速的影响 | 第28-30页 |
·结论 | 第30-31页 |
第三章 四种苯酚衍生物在水溶液中扩散系数的QSAR研究 | 第31-37页 |
·前言 | 第31-32页 |
·实验部分 | 第32-33页 |
·实验仪器 | 第32页 |
·建立模型软件(Pcmod6) | 第32页 |
·计算分子结构参数软件(Winmopac 7.1) | 第32-33页 |
·结果讨论 | 第33-36页 |
·扩散系数的理论计算 | 第33-34页 |
·扩散系数的多元线性回归 | 第34-36页 |
·结论 | 第36-37页 |
第四章 8-羟基喹啉-铝修饰碳糊电极对邻苯三酚的电化学催化氧化 | 第37-49页 |
·引言 | 第37页 |
·实验部分 | 第37-39页 |
·实验仪器 | 第37-38页 |
·实验试剂 | 第38页 |
·石墨基础电极的制备 | 第38页 |
·-羟基喹啉-铝修饰碳糊电极的制备 | 第38-39页 |
·实验步骤 | 第39页 |
·结果与讨论 | 第39-47页 |
·邻苯三酚在修饰碳糊电极的电化学催化行为 | 第39-40页 |
·-羟基喹啉-铝络合比对电化学催化作用的影响 | 第40-41页 |
·溶液酸性的影响 | 第41-42页 |
·初始电位的影响 | 第42-43页 |
·富集时间的影响 | 第43-45页 |
·邻苯三酚溶液浓度的影响 | 第45-47页 |
·西红柿中邻苯三酚的测定 | 第47-48页 |
·结论 | 第48-49页 |
第五章 8-羟基喹啉-铝修饰碳糊电极的电容行为研究 | 第49-57页 |
·引言 | 第49页 |
·实验部分 | 第49-51页 |
·实验仪器 | 第49-50页 |
·实验试剂 | 第50页 |
·石墨基础电极的制备 | 第50页 |
·-羟基喹啉-铝修饰碳糊电极的制备 | 第50-51页 |
·结果与讨论 | 第51-56页 |
·-羟基喹啉-铝修饰碳糊电极的电容器性质 | 第51-52页 |
·修饰剂摩尔比对电容性质的影响 | 第52-53页 |
·修饰量对电容性质的影响 | 第53-54页 |
·扫速的影响 | 第54-55页 |
·扫描圈数的影响 | 第55-56页 |
·结论 | 第56-57页 |
结论 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
作者简介 | 第71页 |