摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
1 绪论 | 第11-22页 |
·镁合金特性及其应用 | 第11页 |
·镁合金特点 | 第11页 |
·镁合金的应用现状 | 第11页 |
·镁合金腐蚀类型及机理研究 | 第11-17页 |
·镁合金腐蚀类型 | 第11-13页 |
·α相的影响 | 第13-15页 |
·β相的影响 | 第15-17页 |
·镁合金表面处理技术 | 第17-18页 |
·微弧氧化处理技术 | 第18-20页 |
·选题依据与研究思想 | 第20-22页 |
2 高稀土镁合金的制备以及微弧氧化基体镁合金的选择 | 第22-39页 |
·高稀土镁合金的制备 | 第22-25页 |
·原材料 | 第22页 |
·熔炼设备简介和气体保护 | 第22-23页 |
·熔炼工艺 | 第23-25页 |
·试样加工 | 第25页 |
·高稀土镁合金各个性能测试方法 | 第25-29页 |
·失重试验 | 第25-27页 |
·电化学性能测试 | 第27-28页 |
·金相分析 | 第28页 |
·场发射扫描电镜(FESEM) | 第28-29页 |
·Gd 含量对铸态高稀土镁合金组织和耐腐蚀性能的影响 | 第29-36页 |
·Gd 含量对高稀土镁合金铸态组织的影响 | 第29-33页 |
·Gd 含量对高稀土镁合金耐腐蚀性能的影响 | 第33-36页 |
·高稀土镁合金腐蚀机理以及微弧氧化基体镁合金的选择 | 第36-37页 |
·高稀土镁合金腐蚀机理分析 | 第36-37页 |
·微弧氧化基体镁合金的选择 | 第37页 |
·本章小结 | 第37-39页 |
3 高稀土镁合金微弧氧化工艺体系的研究 | 第39-73页 |
·引言 | 第39页 |
·实验及检测方法 | 第39-48页 |
·实验材料 | 第39-40页 |
·主要试剂 | 第40-41页 |
·微弧氧化设备简介 | 第41-43页 |
·微弧氧化试验方法 | 第43-47页 |
·微弧氧化膜的制备 | 第47页 |
·微弧氧化膜的测试方法 | 第47-48页 |
·工艺参数对微弧氧化膜层的影响 | 第48-58页 |
·试验结果分析 | 第48-52页 |
·各工艺参数对微弧氧化膜性能的影响 | 第52-55页 |
·微弧氧化膜层表面形貌分析 | 第55-57页 |
·微弧氧化膜层 XRD 的分析 | 第57-58页 |
·电解液各组分对微弧氧化膜层的影响 | 第58-66页 |
·试验结果分析 | 第58-60页 |
·电解液各组分对微弧氧化膜性能(耐蚀性、厚度)的影响 | 第60-63页 |
·微弧氧化膜表面形貌影响 | 第63-65页 |
·微弧氧化膜层 XRD 的分析 | 第65-66页 |
·微弧氧化膜层腐蚀表面形貌分析 | 第66-67页 |
·最优微弧氧化工艺分析 | 第67-71页 |
·氧化时间对膜层物相的影响 | 第68-69页 |
·氧化时间对膜层表面形貌的影响 | 第69-71页 |
·氧化时间对膜层耐蚀性能的影响 | 第71页 |
·本章小结 | 第71-73页 |
4 微弧氧化—电泳复合膜工艺研究 | 第73-78页 |
·引言 | 第73页 |
·实验设备与实验方法 | 第73-75页 |
·实验材料 | 第73页 |
·电泳处理工艺 | 第73-74页 |
·实验主要设备 | 第74-75页 |
·微弧电泳复合膜层的检测 | 第75页 |
·膜层耐蚀性能的测试 | 第75页 |
·膜层厚度的检测 | 第75页 |
·实验结果与分析 | 第75-77页 |
·电压对电泳漆层外观和厚度的影响 | 第75-76页 |
·电压对电泳漆层耐蚀性能的影响 | 第76-77页 |
·本章小结 | 第77-78页 |
5 结论 | 第78-80页 |
参考文献 | 第80-85页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第85-86页 |
致谢 | 第86-87页 |