熔石英体内杂质对激光光场调制的研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-9页
1 绪论	第9-17页
·研究背景和意义	第9-12页
·研究背景	第9-11页
·研究意义	第11-12页
·国内外研究现状	第12-15页
·论文的主要研究内容和框架	第15-17页
2 激光诱导损伤机理	第17-28页
·激光损伤的定义和类型	第17-18页
·激光损伤的定义	第17-18页
·激光损伤的类型	第18页
·激光损伤的影响因素	第18-22页
·激光参数对损伤的影响	第19-21页
·材料参数对损伤的影响	第21-22页
·激光诱导光学元件损伤的机理	第22-25页
·本征损伤	第23页
·非本征损伤	第23-25页
·杂质的来源与特征	第25-26页
·本章小结	第26-28页
3 Mie理论及其数值算法	第28-40页
·球矢量波函数的基本理论	第28-32页
·电磁场波动方程	第28-29页
·球矢量波函数及其正交关系	第29-32页
·Mie散射理论	第32-36页
·Mie散射基本公式	第32-35页
·Mie散射近似	第35-36页
·Mie理论的数值算法	第36-39页
·本章小结	第39-40页
4 熔石英体内球形杂质对激光光场调制的研究	第40-59页
·杂质对入射光场的调制作用	第40-46页
·杂质颗粒的散射系数	第41-44页
·杂质颗粒调制后的光场分布	第44-46页
·杂质性质对调制光场的影响	第46-50页
·杂质折射率对调制光场的影响	第46-47页
·杂质尺寸对调制光场的影响	第47-50页
·激光参数对调制光场的影响	第50-56页
·高斯波束简介	第50-51页
·高斯波束入射对调制光场的影响	第51-55页
·波长对调制光场的影响	第55-56页
·杂质调制光场对损伤的影响	第56-58页
·本章小结	第58-59页
总结	第59-61页
致谢	第61-62页
参考文献	第62-69页
攻读硕士期间发表的学术论文	第69-70页
攻读硕士期间参加的科研项目	第70页