| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-30页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·激光及固体激光技术概述 | 第12-15页 |
| ·激光原理 | 第12-13页 |
| ·固态激光技术 | 第13-14页 |
| ·固体激光器的发展趋势 | 第14-15页 |
| ·YAG 透明陶瓷概述 | 第15-19页 |
| ·激光透明陶瓷的发展历史及研究进展 | 第15-17页 |
| ·YAG 晶体结构及特性 | 第17页 |
| ·稀土离子掺杂 YAG 透明陶瓷与单晶的性能比较 | 第17-19页 |
| ·稀土元素激活离子 | 第19-23页 |
| ·Yb~(3+)及准三能级概述 | 第19-21页 |
| ·Nd~(3+)及四能级概述 | 第21-23页 |
| ·YAG 基透明陶瓷制备工艺 | 第23-28页 |
| ·YAG 粉体制备 | 第23-25页 |
| ·素坯成型 | 第25-27页 |
| ·陶瓷烧结技术 | 第27页 |
| ·退火与抛光 | 第27-28页 |
| ·本课题研究的意义及内容 | 第28-30页 |
| 第二章 实验原料与材料制备及其表征方法 | 第30-34页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验原料与化学试剂 | 第30页 |
| ·实验设备 | 第30-31页 |
| ·粉体制备设备 | 第30页 |
| ·成型设备 | 第30页 |
| ·透明陶瓷烧结设备 | 第30页 |
| ·退火设备 | 第30-31页 |
| ·加工设备 | 第31页 |
| ·实验测试与表征 | 第31-34页 |
| ·密度测试 | 第31页 |
| ·X 射线衍射 | 第31-32页 |
| ·场发射扫描电子显微镜 | 第32页 |
| ·光透式粒度分布仪 | 第32页 |
| ·比表面积测试 | 第32页 |
| ·荧光光谱仪 | 第32页 |
| ·分光光度计 | 第32-33页 |
| ·投射式光学显微镜 | 第33-34页 |
| 第三章 固相反应法制备不同掺杂浓度 Yb:YAG 透明陶瓷及其性能研究 | 第34-46页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·Yb:YAG 透明陶瓷制备 | 第34-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-44页 |
| ·Yb:YAG 陶瓷致密化行为 | 第36-38页 |
| ·Yb:YAG 陶瓷微观结构演化 | 第38-41页 |
| ·Yb:YAG 陶瓷的气孔 | 第41-43页 |
| ·Yb:YAG 陶瓷的光学性质 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 固相反应法制备不同浓度掺杂 Nd:YAG 透明陶瓷及其性能研究 | 第46-63页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·Nd:YAG 透明陶瓷制备 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-61页 |
| ·Nd:YAG 陶瓷致密化行为 | 第47-50页 |
| ·Nd:YAG 陶瓷微观结构演化 | 第50-54页 |
| ·Nd:YAG 陶瓷的气孔 | 第54-55页 |
| ·Nd:YAG 陶瓷的光学性质 | 第55-59页 |
| ·Nd:YAG 样品的荧光寿命及荧光谱 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 不同干压和不同冷等静压条件对陶瓷性能的影响及研究 | 第63-73页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·透明陶瓷制备 | 第63-64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-72页 |
| ·干压成型素坯密度 | 第64-65页 |
| ·冷等静压成型后素坯密度 | 第65-67页 |
| ·Nd:YAG 陶瓷致密化行为 | 第67-68页 |
| ·Nd:YAG 陶瓷的光学性质 | 第68-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 全文结论及研究展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-82页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
