新型多晶硅还原炉温度，流动和能耗的模拟
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-27页 |
| ·多晶硅的性质及行业状况 | 第7-13页 |
| ·多晶硅的分类 | 第8页 |
| ·国内多晶硅行业现状 | 第8-11页 |
| ·国外多晶硅行业现状 | 第11-13页 |
| ·多晶硅的生产方法 | 第13-16页 |
| ·氢气还原三氯氢硅法 | 第14页 |
| ·硅烷热分解法 | 第14-15页 |
| ·氢气还原四氯化硅法及其他方法 | 第15-16页 |
| ·改良西门子法 | 第16-21页 |
| ·改良西门子法工艺 | 第17-18页 |
| ·西门子反应器 | 第18-21页 |
| ·化学气相沉积反应 | 第21-23页 |
| ·计算流体力学 | 第23-24页 |
| ·本文研究思路 | 第24-27页 |
| 第二章 多晶硅还原炉温度场研究 | 第27-51页 |
| ·物料性质及计算方程 | 第27-33页 |
| ·混合气体性质 | 第27-29页 |
| ·数学模型 | 第29-30页 |
| ·辐射模型选择 | 第30-33页 |
| ·传统多晶硅还原炉温度场的模拟 | 第33-40页 |
| ·计算模型 | 第33-35页 |
| ·网格划分和边界条件设置 | 第35-36页 |
| ·计算结果与讨论 | 第36-40页 |
| ·改进的多晶硅还原炉温度场的模拟 | 第40-48页 |
| ·计算模型 | 第40-43页 |
| ·网格划分和边界条件设置 | 第43-44页 |
| ·计算结果与讨论 | 第44-48页 |
| ·壁面反射率对还原炉温度场的影响 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第三章 多晶硅还原炉的流场及能耗研究 | 第51-59页 |
| ·数学模型 | 第51-52页 |
| ·多晶硅还原炉的流场 | 第52-56页 |
| ·传统的多晶硅还原炉的流场 | 第52-54页 |
| ·改进的多晶硅还原炉的流场 | 第54-55页 |
| ·计算结果讨论 | 第55-56页 |
| ·多晶硅还原炉的能耗研究 | 第56-58页 |
| ·两种多晶硅还原炉的能耗比较 | 第56-57页 |
| ·壁面反射率对还原炉的能耗影响 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 结论与展望 | 第59-62页 |
| ·结论 | 第59-61页 |
| ·展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 符号说明 | 第65-66页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
