| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第1章 引言 | 第7-31页 |
| ·光催化 | 第7-9页 |
| ·光催化的发展历史 | 第7-8页 |
| ·光催化技术的应用 | 第8-9页 |
| ·半导体光催化 | 第9-18页 |
| ·半导体光催化的机理 | 第9-12页 |
| ·影响半导体光催化反应的因素 | 第12-13页 |
| ·半导体催化技术存在的问题 | 第13-14页 |
| ·提高半导体光催化活性的方法 | 第14-18页 |
| ·硕士论文课题选题目的以及内容 | 第18-30页 |
| ·铁酸铋 | 第19-23页 |
| ·石墨烯 | 第23-27页 |
| ·水热法制备光催化复合材料 | 第27-30页 |
| ·本课题的研究意义以及主要内容 | 第30-31页 |
| 第2章 实验装置与实验方法 | 第31-36页 |
| ·实验试剂 | 第31-32页 |
| ·测试技术分析 | 第32-34页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第32页 |
| ·扫描电子显微镜分析（SEM） | 第32页 |
| ·透射电子显微镜分析（TEM） | 第32页 |
| ·紫外-可见漫反射吸收光谱（UV-Vis-DRS） | 第32-33页 |
| ·X 光电子能谱（XPS） | 第33页 |
| ·热重分析法（TGA） | 第33-34页 |
| ·Raman 光谱 | 第34页 |
| ·前驱体制备工艺 | 第34-36页 |
| ·氧化石墨烯的制备工艺 | 第34-35页 |
| ·铁酸铋前驱体的制备工艺 | 第35页 |
| ·铁酸铋前驱体与氧化石墨烯的混合工艺 | 第35-36页 |
| 第3章 氧化石墨烯浓度对于铁酸铋/石墨烯复合产物的影响 | 第36-46页 |
| ·实验组设置 | 第36页 |
| ·复合材料结构与性能表征 | 第36-45页 |
| ·XRD | 第36-37页 |
| ·SEM | 第37-38页 |
| ·Raman | 第38-39页 |
| ·UV-Vis紫外-可见光谱 | 第39-40页 |
| ·XPS | 第40-42页 |
| ·TEM | 第42-43页 |
| ·光催化性质 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 KOH 浓度对于铁酸铋/石墨烯复合材料性能的影响 | 第46-60页 |
| ·实验组设置 | 第46页 |
| ·实验产物的检测和性能表征 | 第46-59页 |
| ·XRD | 第46-48页 |
| ·SEM | 第48-51页 |
| ·紫外可见光光谱测试 | 第51-54页 |
| ·XPS | 第54-56页 |
| ·光催化性质的测试 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 BiFeO_3的结晶过程和氧化石墨烯的还原过程 | 第60-67页 |
| ·水热时间的影响 | 第60-62页 |
| ·碱液浓度对于 BiFeO_3形貌的影响 | 第62-64页 |
| ·KOH浓度与石墨烯还原程度的关系 | 第64-67页 |
| 第6章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 致谢 | 第75-77页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第77页 |
