| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstracts | 第6-11页 |
| 第1章 有序纳米材料研究概述 | 第11-19页 |
| ·有序纳米材料的界定与制备方法 | 第11-14页 |
| ·有序纳米材料的界定 | 第11-12页 |
| ·有序纳米材料的制备方法 | 第12-13页 |
| ·模板法组装有序纳米材料 | 第13-14页 |
| ·有序纳米材料的基本性质与基本应用 | 第14-17页 |
| ·光学特性及应用 | 第14-15页 |
| ·电化学性质及应用 | 第15页 |
| ·磁性质及应用 | 第15-16页 |
| ·离子选择性及应用 | 第16页 |
| ·催化特性及应用 | 第16-17页 |
| ·参考文献 | 第17-19页 |
| 第2章 银纳米线研究概述 | 第19-29页 |
| ·银纳米线的制备方法 | 第19-20页 |
| ·银纳米线的基本性质和基本应用 | 第20-25页 |
| ·银纳米线基于化学特性的应用 | 第20-21页 |
| ·银纳米线基于光学特性的应用 | 第21-23页 |
| ·银纳米线基于电学特性的应用 | 第23-25页 |
| ·参考文献 | 第25-29页 |
| 第3章 表面增强拉曼散射研究概述 | 第29-39页 |
| ·拉曼光谱简介 | 第29-30页 |
| ·表面增强拉曼散射的研究简介 | 第30-36页 |
| ·表面增强拉曼散射特点与机理 | 第30-33页 |
| ·表面增强拉曼散射基底 | 第33-34页 |
| ·表面增强拉曼散射的应用 | 第34-36页 |
| ·参考文献 | 第36-39页 |
| 第4章 氧化铝模板的可控制备及光学特性研究 | 第39-49页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·实验 | 第40-43页 |
| ·实验所用试剂 | 第40页 |
| ·实验仪器装置 | 第40页 |
| ·氧化铝模板的制备 | 第40-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-46页 |
| ·氧化铝模板的形貌表征 | 第43-44页 |
| ·氧化铝模板的光学特性 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| ·参考文献 | 第47-49页 |
| 第5章 有序银纳米线阵列的制备及其光谱特性研究 | 第49-59页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·实验设计 | 第50-52页 |
| ·实验所用试剂 | 第50页 |
| ·实验仪器装置 | 第50页 |
| ·有序银纳米线阵列的制备 | 第50-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-56页 |
| ·沉积有银纳米线阵列的氧化铝模板的形貌表征 | 第52-53页 |
| ·有氧化铝模板辅助的银纳米线阵列的光谱特性研究 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| ·参考文献 | 第57-59页 |
| 第6章 有序银纳米线阵列的长度可控性研究 | 第59-69页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| ·实验设计 | 第60-61页 |
| ·实验所用试剂 | 第60页 |
| ·实验仪器装置 | 第60页 |
| ·可控长度银纳米线的制备 | 第60-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-67页 |
| ·沉积有银纳米线阵列的氧化铝模板的侧面长度测量(SEM) | 第61-64页 |
| ·银纳米线的透射电镜(TEM)长度表征 | 第64-66页 |
| ·银纳米线阵列整体长度和银纳米线长度的对比分析 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| ·参考文献 | 第68-69页 |
| 第7章 银纳米线阵列的表面增强拉曼散射特性研究 | 第69-79页 |
| ·引言 | 第69-70页 |
| ·实验设计 | 第70-72页 |
| ·实验所用试剂 | 第70页 |
| ·实验仪器装置 | 第70页 |
| ·银纳米线阵列的化学修饰 | 第70-72页 |
| ·结果与讨论 | 第72-77页 |
| ·被化学修饰过的银纳米线阵列的形貌表征 | 第72-73页 |
| ·被化学修饰过的银纳米线阵列的SERS应用 | 第73-74页 |
| ·裸露不同长度的银纳米线阵列作为增强基底的探讨 | 第74-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| ·参考文献 | 第78-79页 |
| 第8章 总结与展望 | 第79-81页 |
| 附录：攻读硕士期间论文发表情况 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |