| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-31页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·有机电致发光器件的发展背景 | 第10-11页 |
| ·有机发光二极管（OLED）器件物理简介 | 第11-19页 |
| ·底发射 OLED 器件结构 | 第11-13页 |
| ·影响 OLED 器件效率的因素 | 第13-16页 |
| ·典型的 OLED 光提取技术 | 第16-19页 |
| ·表面等离子体（surface plasmon-polariton，SPP）简介 | 第19-31页 |
| ·表面等离子体的发展背景 | 第19-24页 |
| ·表面等离子体的经典推导 | 第24-31页 |
| 第二章 表面等离子体对 OLED 中发光材料自发辐射速率的调控 | 第31-43页 |
| ·引言 | 第31-35页 |
| ·Purcell 效应 | 第31-33页 |
| ·表面等离子体在 OLED 中调控发光材料自发辐射速率的应用 | 第33-35页 |
| ·器件制备和测试 | 第35-37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-42页 |
| ·银纳米颗粒层表征 | 第37-38页 |
| ·银纳米颗粒对 OLED 器件性能影响 | 第38-41页 |
| ·不同条件下银纳米颗粒对 FIrpic 自发辐射率的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 OLED 器件中表面等离子体损耗的提取 | 第43-59页 |
| ·引言 | 第43-46页 |
| ·利用周期性结构提取表面等离子体的理论基础 | 第44-45页 |
| ·OLED 中基于表面等离子体的光提取技术的研究进展 | 第45-46页 |
| ·OLED 中 MoO_3缓冲层的研究 | 第46-53页 |
| ·引言 | 第46-47页 |
| ·器件制备和测试 | 第47-48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-53页 |
| ·小结 | 第53页 |
| ·基于 MoO_3准周期孔阵列结构的表面等离子体提取技术 | 第53-59页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·器件制备和测试 | 第53-56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 全文总结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-73页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
